| 发明名称 | 用于激光诱致热成像方法的供体基板及其制造方法 | ||
| 摘要 | 提供了一种用于激光诱致热成像(laser inducedthermal imaging)方法的供体基板和利用该供体基板制造的有机发光显示器(OLED)。还提供了一种制造OLED的方法，由于具有导电层的供体基板电连接于接地台架，当利用激光诱致热成像方法形成有机层时，这种方法能够控制静电。 | ||
| 申请公布号 | CN1744781A | 申请公布日期 | 2006.03.08 |
| 申请号 | CN200410099716.8 | 申请日期 | 2004.12.31 |
| 申请人 | 三星SDI株式会社 | 发明人 | 金茂显;陈炳斗;宋明原;李城宅 |
| 分类号 | H05B33/10(2006.01);H05B33/14(2006.01);B41M5/26(2006.01) | 主分类号 | H05B33/10(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种用于激光诱致热成像(laser induced thermal imaging)方法的供体基板，包括：基底层；形成于所述基底层整个表面上的光热转换层；在所述基底层整个表面之上形成于所述光热转换层上的防静电层；形成于所述防静电层上，并被构图以暴露所述防静电层预定部分的转印层；其中所述防静电层由导电材料制成。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||