发明名称 |
受控的硫种类沉积方法 |
摘要 |
本发明是一种将预定组合物的薄膜沉积到衬底上的方法,该薄膜包括三元、四元或更高的硫化物化合物,其选自:来自周期表的族IIA和IIB中的至少一种元素的硫代铝酸盐、硫代镓酸盐和硫代铟酸盐。该方法包括使预定组合物的硫化物的至少一种源材料挥发,在衬底上形成含硫薄膜组合物,并同时阻止任何过量的挥发自至少一种源材料的含硫种类撞击衬底。该方法改进了无机发光材料的发光度和发射光谱,所述无机发光材料用于应用具有高介电常数的厚膜介电层的彩色交流电致发光显示装置。 |
申请公布号 |
CN1745158A |
申请公布日期 |
2006.03.08 |
申请号 |
CN200480003132.4 |
申请日期 |
2004.01.26 |
申请人 |
伊菲雷技术公司 |
发明人 |
辛永保;詹姆斯·亚历山大·罗伯特·斯泰尔斯;梁志杰;特里·亨特;乔·阿基奥内 |
分类号 |
C09K11/08(2006.01);C09K11/84(2006.01);C23C14/30(2006.01);C23C14/54(2006.01);C23C14/06(2006.01) |
主分类号 |
C09K11/08(2006.01) |
代理机构 |
中原信达知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
樊卫民;郭国清 |
主权项 |
1.一种将预定组合物的薄膜沉积到衬底上的方法,该薄膜包括三元、四元或更高的硫化物化合物,其选自:来自周期表的族IIA和IIB中的至少一种元素的硫代铝酸盐、硫代镓酸盐和硫代铟酸盐,该方法包括:使至少一种包括硫化物的源材料挥发,所述硫化物形成所述预定组合物,以在衬底上形成含硫薄膜组合物;和使撞击所述衬底的挥发自至少一种源材料的任何过量含硫种类最小化。 |
地址 |
加拿大艾伯塔省 |