| 发明名称 | 脱臭的N－乙烯基－2－吡咯烷酮的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种不含臭气成分的精制的N-乙烯基-2-吡咯烷酮的制造方法。该方法通过在含臭气成分的N-乙烯基-2-吡咯烷酮的纯度在90重量％以上的液体中添加沸点比其低的化合物，得到液体，使用蒸馏塔蒸馏该得到的液体，从而使臭气成分和该低沸点化合物一起作为馏出液除去。 | ||
| 申请公布号 | CN1244557C | 申请公布日期 | 2006.03.08 |
| 申请号 | CN03106019.6 | 申请日期 | 2003.02.20 |
| 申请人 | 株式会社日本触媒 | 发明人 | 阿部一彻;吉年孝司;矢野齐 |
| 分类号 | C07D207/12(2006.01) | 主分类号 | C07D207/12(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘元金;孟凡宏 |
| 主权项 | 1.一种脱臭的N-乙烯基-2-吡咯烷酮的制造方法，其特征在于，通过在含臭气成分的N-乙烯基-2-吡咯烷酮的纯度在90重量％以上的液体中添加至少一种沸点比N-乙烯基-2-吡咯烷酮低的化合物，得到液体，使用蒸馏塔蒸馏该得到的液体，从而使臭气成分和上述化合物一起作为馏出液除去，该沸点比N-乙烯基-2-吡咯烷酮低的化合物是选自脂肪族烃、芳香族烃、卤代烃、醇、醚、酮、酯、乙腈、硝基甲烷和水中的、具有羟基的化合物或者在常压下具有150℃以下的沸点的化合物。 | ||
| 地址 | 日本大阪府大阪市 | ||