发明名称 | 一种单分散纳米介孔二氧化硅材料的合成方法 | ||
摘要 | 本发明属于无机纳米材料技术领域,具体涉及一种单分散纳米介孔二氧化硅的合成方法。它以阳离子表面活性剂为模板剂,三嵌段非离子表面活性剂为辅助模板剂和分散剂,在温和碱性条件下,形成溶胶反应液,进而合成出单分散纳米介孔二氧化硅材料。该方法合成的介孔二氧化硅材料具有纳米级的单分散均匀球形颗粒,具有较好的有序介孔孔道,具有较高的比表面积和较大的孔体积,因而在催化、大分子分离、传感器、光学材料、生物芯片、有机-无机纳米复合材料以及化学机械抛光磨料等方面具有广阔的应用前景。 | ||
申请公布号 | CN1244492C | 申请公布日期 | 2006.03.08 |
申请号 | CN200310105133.7 | 申请日期 | 2003.11.19 |
申请人 | 中国科学院金属研究所 | 发明人 | 张劲松;梁艳;张 |
分类号 | C01B33/113(2006.01) | 主分类号 | C01B33/113(2006.01) |
代理机构 | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 | 代理人 | 许宗富;周秀梅 |
主权项 | 1、一种单分散纳米介孔二氧化硅材料的合成方法,其特征在于:在碱性条件下,以阳离子表面活性剂为模板剂,以三嵌段聚醚非离子表面活性剂为辅助模板剂和分散剂,具体合成步骤如下:1)将阳离子表面活性剂和三嵌段聚醚非离子表面活性剂加入到碱性溶液中,在30~80℃下充分搅拌,待表面活性剂完全溶解后,将硅源加入到该溶液中,去离子水、碱源、阳离子表面活性剂、三嵌段聚醚非离子表面活性剂和硅源的摩尔比分别为:60~2000、0.20~100.0、0.05~0.50、0.001~0.40,在20-70℃反应温度下连续搅拌0.25~4.0小时,生成溶胶混合物;2)将步骤1得到的溶胶混合物转移到恒温干燥箱中,在60~150℃烘干水分,得到白色粉末状产物;3)将步骤2的产物经500℃~600℃高温焙烧6~10小时后,即得到白色粉末状的单分散纳米介孔二氧化硅材料;所述三嵌段聚醚非离子表面活性剂为聚环氧乙烯-聚环氧丙烯-聚环氧乙烯表面活性剂,分子量为2000~100000;所述阳离子表面活性剂为碳链长度为C8-C22的长链季铵盐。 | ||
地址 | 110016辽宁省沈阳市沈河区文化路72号 |