| 发明名称 | 显示装置的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提出的显示装置的制造方法，使用局部形成抗蚀膜的单元，以及利用在大气压或接近于大气压的压力下的等离子体处理局部成膜、蚀刻或灰化的单元，实现显示装置制作低成本化。本发明的显示装置的制造方法，其特征是具有在大气压或接近于大气压的压力下，局部形成导电膜并形成配线的工序。在这里，所谓配线，包含在有源矩阵型的显示装置的像素部中作为栅极配线和源极配线起作用的配线，此外还有从外部输入端子向像素部传送信号用的连接配线，以及将薄膜晶体管(TFT)与像素电极相连接用的配线等所有的配线。 | ||
| 申请公布号 | CN1745465A | 申请公布日期 | 2006.03.08 |
| 申请号 | CN200480003252.4 | 申请日期 | 2004.01.30 |
| 申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 山崎舜平 |
| 分类号 | H01L21/3213(2006.01);H01L21/285(2006.01);H01L21/28(2006.01);H01L21/336(2006.01);H01L21/3065(2006.01);B05D3/04(2006.01);H05K3/10(2006.01);G09F9/30(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3213(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 沈昭坤 |
| 主权项 | 1.一种显示装置的制造方法，其特征在于，包含在5～800torr的压力下，使用具有发生等离子体用的电极的等离子体处理单元，利用在基板上局部形成导电膜的方法形成配线的工序。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||