发明名称 Spin coater used to manufacturing semiconductor, having rinse drain unit
摘要
申请公布号 KR100558479(B1) 申请公布日期 2006.03.07
申请号 KR20030034152 申请日期 2003.05.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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