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发明名称 APPARATUS FOR MEASURING THICKNESS OF PHOTORESIST AND METHOD FOR MEASURING THICKNESS OF PHOTORESIST USING THE SAME
摘要
申请公布号 KR20060019300(A) 申请公布日期 2006.03.03
申请号 KR20040067911 申请日期 2004.08.27
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KIM, DO YOUNG;KIM, JAE HO;KIM, YOUNG HO;LEE, HONG;PARK, KYOUNG SIL
分类号 H01L21/66;H01L21/027 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
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