发明名称 Ether, Polymer, Resist Composition and Patterning Process
摘要
申请公布号 KR100555287(B1) 申请公布日期 2006.03.03
申请号 KR20020002451 申请日期 2002.01.16
申请人 发明人
分类号 G03F7/027;C07C43/178;C07C69/00;C07C69/007;C08F232/08;G03F7/004 主分类号 G03F7/027
代理机构 代理人
主权项
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