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发明名称 Novel photoresist monomer, polymer thereof and photoresist composition containing it
摘要
申请公布号 KR100557543(B1) 申请公布日期 2006.03.03
申请号 KR20000037314 申请日期 2000.06.30
申请人 发明人
分类号 G03F7/031 主分类号 G03F7/031
代理机构 代理人
主权项
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