发明名称 Oberfläche mit einer haftungsvermindernden Mikrostruktur und Verfahren zu deren Herstellung
摘要 Die Erfindung betrifft eine Oberfläche mit einer haftungsvermindernden Mikrostruktur und ein Verfahren zu deren Herstellung. Solche haftungsvermindernden Mikrostrukturen sind bekannt, um beispielsweise unter Ausnutzung des so genannten Lotus-Effektes selbstreinigende Oberflächen auszubilden. Erfindungsgemäß ist es vorgesehen, dass die Oberfläche elektrochemisch mittels Reverse Pulse Plating hergestellt wird, wobei die an sich bekannte Mikrostruktur erzeugt wird und gleichzeitig oder in einem nachgelagerten Verfahrensschritt eine die Mikrostruktur überlagernde Nanostruktur erzeugt wird. Dies lässt sich beispielsweise erreichen, indem die Pulslänge der beim Reverse Pulse Plating verwendeten Strompulse im Millisekundenbereich mit einem Pulslängenverhältnis von größer 1 : 3 (anodisch : kathodisch) gewählt wird. Die erzeugte Mikrostruktur, bestehend aus Erhebungen (19) und Vertiefungen (20), wird dann durch um Größenordnungen kleinere Erhebungen (19n) und Vertiefungen (20n) der Nanostruktur überlagert, wodurch sich der durch die Oberfläche erzielte Lotus-Effekt vorteilhaft verbessern lässt.
申请公布号 DE102004041813(A1) 申请公布日期 2006.03.02
申请号 DE200410041813 申请日期 2004.08.26
申请人 SIEMENS AG 发明人 HANSEN, CHRISTIAN;KRUEGER, URSUS;SCHNEIDER, MANUELA
分类号 C25D5/18 主分类号 C25D5/18
代理机构 代理人
主权项
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