发明名称 Verfahren zum Ablösen von Photoresistlacken
摘要
申请公布号 DE10026029(B4) 申请公布日期 2006.03.02
申请号 DE20001026029 申请日期 2000.05.25
申请人 SOLVAY FLUOR GMBH 发明人 BUEGLER, JUERGEN H.;BRAUN, MAX;BROSCH, CARSTEN
分类号 C11D7/50;C11D11/00;G03F7/32;G03F7/40;G03F7/42 主分类号 C11D7/50
代理机构 代理人
主权项
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