发明名称 可提升接地品质之半导体封装件及用于该半导体封装件之导线架
摘要 一种可提升接地品质之半导体封装件及用于该半导体封装件之导线架,系包括:导线架本体,系具有至少一晶片座、多数导脚与用以支撑该晶片座的多数系条;接地部,系包括与该击条连接的第一接地部以及与该晶片座连接的第二接地部之其中至少一者,且每一第一接地部间系互不连接,而每一第二接地部间亦互不连接;至少一接置于该晶片座上的晶片;以及用以包覆该晶片与接地部之封装胶体,从而利用该互不连接的接地部结构,充分释放后续高温制程中的接地部应力,以使该封装件不致产生因接地部变形所导致的接地品质问题。
申请公布号 TWI250632 申请公布日期 2006.03.01
申请号 TW092114337 申请日期 2003.05.28
申请人 矽品精密工业股份有限公司 发明人 李义雄;李春源;陈韦宏;黄世尊;云智勇
分类号 H01L23/495 主分类号 H01L23/495
代理机构 代理人 陈昭诚 台北市中正区博爱路80号6楼
主权项 1.一种可提升接地品质之半导体封装件,系包括: 导线架本体,系具有至少一晶片座、连接该晶片座 且用以支撑该晶片座的多数系条(Tie-Bar)、与布设 于该晶片座周围的多数导脚; 接地部,系包括与该系条连接的第一接地部以及与 该晶片座连接的第二接地部之其中至少一者,其中 ,每一第一接地部间系互不连接,而每一第二接地 部间亦互不连接; 至少一晶片,系接置于该晶片座上且电性连接至该 多数导脚与该接地部;以及 用以包覆该晶片与接地部之封装胶体。 2.如申请专利范围第1项之半导体封装件,其中,该 第一接地部与第二接地部间系互不连接。 3.如申请专利范围第1项之半导体封装件,其中,该 第一接地部系与该晶片座连接。 4.如申请专利范围第1项之半导体封装件,其中,该 第一接地部系未与该晶片座连接。 5.如申请专利范围第3项之半导体封装件,其中,该 第一接地部系包括相互连接以与该系条围置成一 镂空区域的接地区与连接区。 6.如申请专利范围第4项之半导体封装件,其中,该 第一接地部系为一长条形接地区。 7.如申请专利范围第1项之半导体封装件,其中,该 第二接地部系未与该系条连接。 8.如申请专利范围第7项之半导体封装件,其中,该 第二接地部系包括相互连接以与该晶片座边缘围 置成一镂空区域的接地区与连接区。 9.如申请专利范围第1项之半导体封装件,其中,每 一系条上均系形成有该第一接地部。 10.如申请专利范围第1项之半导体封装件,其中,该 第一接地部系分别位列于该系条两侧。 11.如申请专利范围第1项之半导体封装件,其中,该 晶片座之每一边缘上均系形成有该第二接地部。 12.如申请专利范围第1项之半导体封装件,其中,该 系条系与该晶片座之角缘连接。 13.如申请专利范围第1项之半导体封装件,其中,该 晶片座上未接置晶片之表面系外露出该封装胶体 外。 14.如申请专利范围第1项之半导体封装件,其中,该 晶片系藉由多数焊线以与该多数导脚及接地部进 行电性连接。 15.一种导线架,系包括: 本体,系具有至少一晶片座、连接该晶片座且用以 支撑该晶片座的多数系条(Tie-Bar)、与布设于该晶 片座周围的多数导脚;以及 接地部,系包括与该系条连接的第一接地部以及与 该晶片座连接的第二接地部之其中至少一者,其中 ,每一第一接地部间系互不连接,而每一第二接地 部间亦互不连接。 16.如申请专利范围第15项之导线架,其中,该第一接 地部与第二接地部间系互不连接。 17.如申请专利范围第15项之导线架,其中,该第一接 地部系与该晶片座连接。 18.如申请专利范围第15项之导线架,其中,该第一接 地部系未与该晶片座连接。 19.如申请专利范围第17项之导线架,其中,该第一接 地部系包括相互连接以与该系条围置成一镂空区 域的接地区与连接区。 20.如申请专利范围第18项之导线架,其中,该第一接 地部系为一长条形接地区。 21.如申请专利范围第15项之导线架,其中,该第二接 地部系未与该系条连接。 22.如申请专利范围第21项之导线架,其中,该第二接 地部系包括相互连接以与该晶片座边缘围置成一 镂空区域的接地区与连接区。 23.如申请专利范围第15项之导线架,其中,每一系条 上均系形成有该第一接地部。 24.如申请专利范围第15项之导线架,其中,该第一接 地部系分别位列于该系条两侧。 25.如申请专利范围第15项之导线架,其中,该晶片座 之每一边缘上均系形成有该第二接地部。 26.如申请专利范围第15项之导线架,其中,该系条系 与该晶片座之角缘连接。 图式简单说明: 第1图系本发明之导线架的较佳实施例上视图; 第2图系第1图所示之导线架于接置晶片后之上市 图; 第3A图系本发明之半导体封装件自第2图之3A-3A线 所视之剖视图; 第3B图系本发明之半导体封装件自第2图之3B-3B线 所视之剖视图; 第4A至4C图系本发明之导线架的第二、三、四实施 例于接置晶片后之上视图; 第5A图系美国专利第5,814,877号案所揭示之导线架 上视图; 第5B图系自第5A图之5B-5B线所视之封装件剖视图; 第6A图系美国专利第6,437,427号案所揭示之导线架 上视图; 第6B图系自第6A图之6B-6B线所视之封装件剖视图; 第7A图系美国专利第6,380,048号案所揭示之导线架 上视图; 第7B图系自第7A图之7B-7B线所视之封装件剖视图; 第8A图系习知半导体封装件之导线架的接地环于 升温制程中产生变形之上视图; 第8B图系自第8A图之8B-8B线所视之接地环变形的剖 视图; 第9A图系第7A图所示之导线架的S型系条释放应力 示意图; 第9B图系自第9A图之9B-9B线所视之接地环变形的剖 视图;以及 第9C图系自第9A图之9C-9C线所视之接地环变形与接 地线断裂的剖视图。
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