| 主权项 |
1.一种玻璃板表面之蚀刻方法,其特征为具备:将蚀 刻液喷附于玻璃板的 表面,并对前述玻璃板表面进行蚀刻的蚀刻步骤; 及从前述玻璃板去除喷附后之蚀刻液的蚀刻液去 除步骤。 2.如申请专利范围第1项所记载的蚀刻方法,其中前 述蚀刻方法,是对收纳于具有开口部,且挟持固定 玻璃板端部形成收纳之玻璃板收纳单元内的玻璃 板进行蚀刻。 3.如申请专利范围第1项所记载的蚀刻方法,其中在 前述蚀刻步骤之前,具备以特定图案在玻璃板表面 披覆掩盖剂的掩盖剂披覆步骤。 4.如申请专利范围第1项所记载的蚀刻方法,其中前 述蚀刻步骤,是令前述玻璃板形成略水平状,并对 前述玻璃板的底面喷附蚀刻液后对前述玻璃板的 表面进行蚀刻。 5.如申请专利范围第4项所记载的蚀刻方法,其中前 述蚀刻步骤,是对前述玻璃板之底面的相反面喷附 蚀刻液后对前述玻璃板的表面进行蚀刻。 6.如申请专利范围第l项所记载的蚀刻方法,其中前 述蚀刻步骤,是令前述玻璃板形成略垂直状,并对 前述玻璃板的底面喷附蚀刻液后对前述玻璃板的 表面进行蚀刻。 7.一种玻璃板蚀刻装置,其特征为具备: 可支承玻璃板的玻璃板支承部;和 可朝支承于前述玻璃板支承部的玻璃板喷附蚀刻 液的蚀刻液喷射喷嘴;和 可控制前述蚀刻液温度并贮留前述蚀刻液的蚀刻 液贮留槽;及 回收前述喷射后之蚀刻液的蚀刻液喷附装置。 8.如申请专利范围第7项所记载的蚀刻装置,其中前 述玻璃板支承部,是可将玻璃板支承成略水平状的 支承部,前述蚀刻液喷射喷嘴,是可从前述玻璃板 下方朝前述玻璃板底面喷射蚀刻液的喷嘴。 9.如申请专利范围第7项所记载的蚀刻装置,其中前 述玻璃板支承部,是可将玻璃板支承成略垂直状的 支承部。 10.如申请专利范围第8项所记载的玻璃板蚀刻装置 ,其中前述支承部,是支承前述玻璃板的端部。 11.如申请专利范围第10项所记载的蚀刻装置,其中 前述支承部,是可搬送玻璃板的搬送装置。 12.如申请专利范围第11项所记载的蚀刻装置,其中 前述搬送装置,是从搬送方向左右两侧支承玻璃板 两端的搬送滚子。 13.如申请专利范围第12项所记载的蚀刻装置,其中 前述搬送滚子,是由具有平面的基部、和外径小于 该基部之平面间隙的略圆柱形滚子所连结的搬送 滚子,该搬送滚子是利用前述基部的平面与前述滚 子的平面形成连结。 14.如申请专利范围第;3项所记载的蚀刻装置,其中 前述蚀刻液喷射喷嘴,是从前述玻璃板的上方对前 述玻璃板底面之相反面喷射前述蚀刻液。 15.如申请专利范围第7项所记载的蚀刻装置,其中 前述回收装置,可将回收后的蚀刻液送往前述蚀刻 液贮留槽。 16.如申请专利范围第7项所记载的蚀刻装置,其中 前述回收装置,具备可去除存在于回收蚀刻液中之 淤泥的装置。 17.一种平面显示器用玻璃板,是根据申请专利范围 第1项所记载的蚀刻方法进行蚀刻的平面显示器用 玻璃板。 18.一种平面显示器,是使用申请专利范围第17项所 记载的平面显示器用玻璃的平面显示器。 图式简单说明: 第1图:为本发明蚀刻装置的概略图。 第2图:是显示经掩盖剂覆盖之玻璃板的图。 第3图:是用来说明收纳第2图中经掩盖剂覆盖之玻 璃板的玻璃板收纳单元的图。 第4图:是显示利用搬送装置将玻璃板收纳装置搬 送至玻璃蚀刻室内的状态平面图。 第5图:为第4图中C-C线剖面图。 第6图:是说明对玻璃板表面进行蚀刻过程的说明 图。 第7图:为第6图中虚线部分的放大图。 第8图:是用来说明收纳未经掩盖剂覆盖之玻璃板 的玻璃板收纳单元的图。 第9图:为显示平面显示器(FPD)中电激发光显示器( ELD)的其中一例。 第10图:是显示将玻璃板浸渍于蚀刻液中进行蚀刻 的状态下,玻璃表面上之变化的剖面示意图。 第11图:为第10图中虚线部分的放大图。 第12图:是将玻璃板浸渍于蚀刻液中的状态下,显示 蚀刻进行状况之玻璃板剖面示意图。 |
