用来制造石英坩埚之装置

摘要

一种制造石英坩埚之装置，其包含一个中空模具，该中空模具具有底壁部及侧壁部，且内部形成一中空空间。模具之壁面包括多个开口，俾辅助气体通过其中。模具设有一旋转式支架用以使模具绕着一垂直轴旋转。对模具壁面施加真空，俾抽取壁面上的石英粒子并去除气体。一护罩环绕至少部分中空模具；至少设置一个进气口俾提供气体至一位于护罩与模具之间之空间。一个壳体罩住至少部分护罩及中空模具。设置至少一个出气口，以将可能逸出护罩与模具间之空间之气体排出。另外，或除了出气口之外，壳体(罩斗)与护罩间可设置空间俾辅助气体的排放。利用此装置制造坩埚时，可平衡气流，让控制气体的进气流速系超过经由出气口或空间而由经过控制的气压下通风速率。

主权项

1.一种用于制造石英坩埚之装置(10),包含: 一个中空模具(14),其具有一底壁部以及一侧壁部, 且内部界定一个中空空间,该等壁面包括多开口而 辅助气体通过其中; 一个模具(14)之旋转支架,以使模具绕着一垂直轴 旋转该模具(14),中空模具(14)之壁面及底部施加真 空,俾抽取石英粒子朝向壁面以及去除气体; 一护罩(26),其包围该中空模具(14)之至少一部分; 至少一个进气口,其系设置成提供气体至护罩(26) 与中空模具(14)间的空间; 一个壳体,其套住护罩(26)以及中空模具(14)之至少 一部分;以及 至少一个出气口,其系设置成通风由护罩(26)与中 空模具(14)间的空间送出的气体。 2.如申请专利范围第1项之装置(10),其进一步包括 一个压缩空气来源连结于模具(14)开口,俾允许于 坩埚(20)熔化且烧结后排出坩埚。 3.如申请专利范围第1项之装置(10),其包括一个旋 转式真空联轴节俾耦连真空管线至中空模具(14)。 4.如申请专利范围第1项之装置(10),其中该真空系 低75,000帕。 5.如申请专利范围第1项之装置(10),其中该真空系 低15,000帕。 6.如申请专利范围第1项之装置(10),其中该真空系 低5,000帕。 7.如申请专利范围第1项之装置(10),其系包括一种 气体组成分析装置与真空管线联通。 8.如申请专利范围第1项之装置(10),其中该护罩(26) 环绕中空模具(14)之外底壁及外侧壁以及顶部之外 周边。 9.如申请专利范围第1项之装置(10),其进一步包括 至少一个电热元件。 10.如申请专利范围第1项之装置(10),其中该壳体系 与护罩(26)形成气密封(36)。 11.如申请专利范围第1项之装置(10),其中该壳包含 一个罩斗。 12.如申请专利范围第11项之装置(10),其中该罩斗系 充分紧密邻近护罩(26),俾辅助相对于外界气压建 立正压控制大气(38)。 13.如申请专利范围第1项之装置(10),其中至少一个 出气体口包含一根导管该壳体。 14.如申请专利范围第12项之装置(10),其中该至少一 个出气口包含一个介于罩斗与护罩(26)间的空间。 图式简单说明: 图1为本发明之用以制造坩埚之装置之示意图。