发明名称 灰阶罩幕及其制造方法
摘要 本发明之目的是提供灰阶罩幕及灰阶罩幕之制造方法,其具有使透光部、遮光部和半透光部在一方向依该顺序邻接之图案作为灰阶罩幕,可获得良好之半透光部之透过率分布,良好之与透光部邻接之遮光部的图案剖面形状,良好之透光部之图案精确度。本发明之解决手段系灰阶罩幕10,其具有由遮光部、透光部和半透光部构成之图案,上述图案具有使透光部、遮光部和半透光部在一方向依该顺序邻接之图案,上述遮光部叠层有:形成遮光部之遮光膜13a;和半透光膜12a,其形成在该遮光膜13a上之与上述透光部之邻接部之遮光部侧所希望余裕(margin)区域外之区域上。
申请公布号 TW200608581 申请公布日期 2006.03.01
申请号 TW094123355 申请日期 2005.07.11
申请人 HOYA股份有限公司 发明人 佐野道明
分类号 H01L29/786;G03F1/08;G03F7/20 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人 赖经臣
主权项
地址 日本