| 主权项 |
1.一种具远红外线照射作用之奈米釉料,系由35~65% 的熔剂、1~35%的助熔剂、0~25%的耐火剂、0.1~5%之黏 剂、0.5~30%的远红外线粉材以及0.5~10%的奈米材料 所混合而成,再加水研磨成浓度为35020g/200cc,细度 200~325目之釉料,并于实际施作时系披覆于陶磁生 胚或素胚之表面以1120℃~1350℃之温度烧结成具有 远红外线照射作用以及具奈米特性之陶瓷制品者 。 2.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该熔剂系为长石者。 3.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该熔剂系为石英粉者 。 4.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该熔剂系为硼者。 5.如申请专利范围第4项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该硼可以由硼酸、硼 砂、矽酸硼或硼之化合物中取得者。 6.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该助熔剂系为碳酸钙 者。 7.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该助熔剂系为碳酸钡 者。 8.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该助熔剂系为碳酸锂 者。 9.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该助熔剂系为碳酸镁 者。 10.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该助熔剂系为氧化锌 者。 11.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该助熔剂系为滑石粉 者。 12.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该耐火剂系为高岭土 者。 13.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该耐火剂系为蛙目土 者。 14.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该黏剂系为二氧化矽 、氧化镁、三氧化二铝、三氧化二铁、氧化钙、 氧化钠、氧化钾、氧化锂之组成物者。 15.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该黏剂系由38.42%之二 氧化矽、17.13%之氧化镁、0.69 %之三氧化二铝、0.11 %之三氧化二铁、3.25%之氧化钙、4.96%之氧化钠、0. 07%之氧化钾、0.72%之氧化锂及24.84%之无机树脂所 构成者。 16.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该远红外线粉材系为 锆元素者。 17.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该奈米材料系为银、 矽、铝、钠、钾、镁、钙、钛、铁、锂等元素之 组合物者。 18.如申请专利范围第1项所述「一种具远红外线照 射作用之奈米釉料」,其中,该奈米材料系为银、 矽、铝、钠、钾、镁、钙、钛、铁、锂等元素等 组合物之氧化物者。 图式简单说明: 第一图系为一般陶瓷釉药喷施在胚体上之情形 第二图系为本创作奈米釉料于胚体上之情形 |
