发明名称 用以减低浸入式微影系统中移动所导致的扰动之系统与方法
摘要 在一浸入式微影系统中,一可移动基底单元系由一基底与至少一光学元件,以及位于二者间的浸入液体而形成。该浸入液体与该光学元件随着该基底共同地移动。在曝光扫描期间,该基底单元的移动减低由扰动所产生的折射率扰动。在动态轴向补偿群组中的元件可以移动,以补偿由轴向对称的偏向所导致的像差,且该偏向系由于在该基底单元中该光学元件的移动所致。在该基底单元中由浸入液体所填入的空间可以被动态地控制,以提供适当的工作距离。假如该基底单元中的该光学元件具有光功率,则解析度与焦深皆可以提高。即使假如该光学元件不具光功率,则仍可以提高焦深。
申请公布号 TW200608155 申请公布日期 2006.03.01
申请号 TW094127753 申请日期 2005.08.15
申请人 艾斯摩控股股份有限公司 发明人 雷夫 利兹科夫;优利 维拉迪米尔斯基
分类号 G03F7/20;G03B27/72;G02B26/10 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 荷兰