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发明名称
用于沉积具有多层结构之金属氮化物膜的方法
摘要
一种在衬底上沉积具有多层结构和不同沉积速率的金属氮化物膜的方法,该方法包括以下步骤:以第一沉积速率在衬底上形成第一下层金属氮化物膜;以第二沉积速率在第一下层金属氮化物膜上形成第二下层金属氮化物膜;以第三沉积速率在由第一下层金属氮化物膜和第二下层金属氮化物膜形成的下层TiN膜上形成具有高的氮(N)含量的上层金属氮化物膜,以提高与暴露至空气/湿气相关的稳定性。该具有多层结构的金属氮化物膜的沉积速率满足这样的关系,即,第二沉积速率≧第一沉积速率≧第三沉积速率。
申请公布号
TW200607881
申请公布日期
2006.03.01
申请号
TW094128228
申请日期
2005.08.18
申请人
集成工艺系统股份有限公司
发明人
朴永熏;李相奎;徐泰旭
分类号
C23C16/34;C23C16/52;H01L21/3205
主分类号
C23C16/34
代理机构
代理人
谢佩玲
主权项
地址
韩国
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