局部金属矽化之取代闸极

摘要

一种完全金属矽化之取代闸极的形成制程，用以制造出含有均匀厚度的金属矽化之闸极。首先，形成一闸极介电质于一基材之上。之后，形成一含矽层于闸极介电质之上。接着，形成一介电层于含矽层之上。然后，形成一顶层于介电层之上。将闸极介电质、含矽层、介电层与顶层图案化为一闸极堆，再沿着此闸极堆之一边形成一间隙壁。最后去除顶层与介电层，之后再沉积一金属层在含矽层之上并且矽化此金属层。