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发明名称
电浆处理方法及电浆蚀刻方法
摘要
本发明提供一种为实现保护地球环境及电浆制程之高性能化而开发的使用非温室效果气体之电浆处理方法,及可抑制装置之损伤的高精确度之电浆蚀刻方法。本发明之电浆处理方法,其特征为将含有氟气体(F2)之处理气体供应至电浆生成室,藉由交替重覆高频率电场的施加与施加之停止,生成电浆;使该电浆照射于基板进行基板处理。又,亦可藉由自该电浆个别或交替引出负离子或正离子、或者选择性仅负离子,进行中性化生成中性粒子束,使该中性粒子中照射于基板进行基板处理。
申请公布号
TW200608489
申请公布日期
2006.03.01
申请号
TW094122896
申请日期
2005.07.06
申请人
昭和电工股份有限公司;国立大学法人东北大学
发明人
星野恭之;寒川诚二
分类号
H01L21/3065;B81C1/00
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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