发明名称 奈米印模的压印方法
摘要 本发明系有关于一种奈米印模的压印方法,其主要系于印模上涂覆有一层脱膜剂,且将该印模置入容器内,再注入液相待压印物,利用超音波震动及施加按压压力令液相待压印物皆能顺利流入印模上之各凹部内,再将待压印物固着于基层上,待固化后即可顺利脱膜完成具有大深宽比之压印痕迹;藉此,而成为一种既简便又快速之奈米印模的压印方法者。
申请公布号 TW200607650 申请公布日期 2006.03.01
申请号 TW093125075 申请日期 2004.08.20
申请人 林仁辉 发明人 林仁辉;陈冠维
分类号 B41F17/00;B41M5/00 主分类号 B41F17/00
代理机构 代理人 陈金铃
主权项
地址 台南市东区崇德二街6巷25号