| 主权项 |
1.一种光学玻璃,系含有:依重量%表示,SiO2在18%以上 且低于30%,BaO在12%以上且低于23%,TiO2为22至37%,Nb2O5 在7%以上且低于16%,Na2O在5至20%,K2O在0至6%,CaO在0至5% ,SrO在0至5%,ZrO2在0至4%,Ta2O5在0至3%,Sb2O5在0至1%,以及 P2O5在0%以上且低于0.5%,SiO2与TiO2的重量比率SiO2/TiO2 系0.8以上,而且实质上未含有PbO、As2O3及F。 2.如申请专利范围第1项之光学玻璃,其中,折射率( nd)在1.80以上,色散系数(Abbe number)(d)在30以下。 3.一种光学玻璃,系含有必要成分:依重量%表示,SiO2 在18%以上且低于30%,BaO在12%以上且低于23%,TiO2为22 至37%,Nb2O5在7%以上且低于16%,Na2O在5至20%,K2O在0至6%, CaO在0至5%,SrO在0至5%,ZrO2在0至4%,Ta2O5在0至3%,Sb2O5在0 至1%,以及P2O5在0%以上且低于0.5%,SiO2与TiO2的重量比 率SiO2/TiO2系0.8以上,而且实质上未含有PbO、As2O3及F ,且折射率(nd)在1.80以上,色散系数(d)在30以下,同 时具有在高于玻璃转化温度20℃的温度下保持5小 时,然后再于900℃下保持5分钟后所析出结晶粒子 的数量密度为12个/mm3以下之耐失透性。 4.如申请专利范围第1至3项中任一项之光学玻璃, 其中含有ZrO2作为必要成分。 5.如申请专利范围第3项之光学玻璃,其中,SiO2与TiO2 的重量比率SiO2/TiO2系超过0.86。 6.如申请专利范围第1至3项中任一项之光学玻璃, 其中,折射率(nd)在1.84以上,色散系数(d)在25以下 。 7.一种压制成形用玻璃原料,系由依重量%表示,SiO2 在18%以上且低于30%,BaO在12%以上且低于23%,TiO2为22 至37%,Nb2O5在7%以上且低于16%,Na2O在5至20%,K2O在0至6%, CaO在0至5%,SrO在0至5%,ZrO2在0至4%,Ta2O5在0至3%,Sb2O5在0 至1%,以及P2O5在0%以上且低于0.5%,SiO2与TiO2的重量比 率SiO2/TiO2系0.8以上,而且实质上未含有PbO、As2O3及F 之光学玻璃所构成。 8.一种压制成形用玻璃原料,系由含有依重量%表示 ,BaO在12%以上且低于23%,TiO2为22至37%,Nb2O5在7%以上且 低于16%,Na2O在5至20%,以及上述TiO2含量之0.8至1.36倍 的SiO2,而且实质上未含有PbO、As2O3及F,同时折射率( nd)在1.80以上,色散系数(d)在30以下的光学玻璃所 构成。 9.如申请专利范围第7或8项之压制成形用玻璃原料 ,其中,系经施行机械加工后用于再加热压制成形 者,或施行机械加工而成者。 10.一种光学元件,系由依重量%表示,SiO2在18%以上且 低于30%,BaO在12%以上且低于23%,TiO2为22至37%,Nb2O5在7% 以上且低于16%,Na2O在5至20%,K2O在0至6%,CaO在0至5%,SrO 在0至5%,ZrO2在0至4%,Ta2O5在0至3%,Sb2O5在0至1%,以及P2O5 在0%以上且低于0.5%,SiO2与TiO2的重量比率SiO2/TiO2系0 .8以上,而且实质上未含有PbO、As2O3及F之光学玻璃 所构成。 11.一种光学元件之制造方法,系包含有:将依重量% 表示,SiO2在18%以上且低于30%,BaO在12%以上且低于23%, TiO2为22至37%,Nb2O5在7%以上且低于16%,Na2O在5至20%,K2O 在0至6%,CaO在0至5%,SrO在0至5%,ZrO2在0至4%,Ta2O5在0至3% ,Sb2O5在0至1%,以及P2O5在0%以上且低于0.5%,SiO2与TiO2 的重量比率SiO2/TiO2系0.8以上,而且实质上未含有PbO 、As2O3及F之光学玻璃予以成形而获得之成形品,经 施行退火处理之后,再施行机械加工,接着施行再 加热,于软化状态下施行再成形的步骤。 12.一种光学元件之制造方法,系包含有:将申请专 利范围第7项之压制成形用玻璃原料施行再加热, 并于软化状态下进行压制成形的步骤。 13.一种光学元件之制造方法,系包含有:将申请专 利范围第8项之压制成形用玻璃原料施行再加热, 并于软化状态下进行压制成形的步骤。 14.如申请专利范围第11至13项中任一项之光学元件 之制造方法,其中,该退火处理系在该光学玻璃转 化温度以上的温度下进行。 15.一种压制成形用玻璃原料之制造方法,为申请专 利范围第7至9项中任一项之压制成形用玻璃原料 之制造方法,系包含有:熔解玻璃原料的步骤、将 所获得之熔融玻璃予以成形的步骤、以及对经成 形的玻璃施行退火处理的步骤;其中, 该熔融玻璃系含有(1)具有若急冷至室温时,波长400 至2500nm的散乱系数低于0.005cm-1,或者体积分率低于 10-6之结晶的玻璃,且(2)具有在比玻璃转化温度高 出10℃的温度下保持3小时,然后在显示104.5至103.5 dPas黏度的温度下保持10分钟后,再急速冷却至室 温时,波长400至2500nm中至少一波长的散乱系数在0. 01cm-1以上,或者体积分率高于10-5之结晶的玻璃所 构成的组成;以及 上述经成形玻璃的退火处理系在低于玻璃转化温 度的温度下施行。 16.一种压制成形用玻璃原料之制造方法,为申请专 利范围第7至9项中任一项之压制成形用玻璃原料 之制造方法,系包含有:熔解玻璃原料的步骤、将 所获得之熔融玻璃予以成形的步骤、以及对经成 形的玻璃施行退火的步骤;其中, 在上述制造方法之前,判断该熔融玻璃是否为含有 (1)具有若急冷至室温时,波长400至2500nm的散乱系数 低于0.005cm-1,或者体积分率低于10-6之结晶的玻璃, 且(2)具有在比玻璃转化温度高出10℃的温度下保 持3时,然后在显示104.5至103.5dPas黏度的温度下保 持10分钟后,再急速冷却至室温时,波长400至2500nm中 至少一波长的散乱系数在0.01cm-1以上,或体积分率 高于10-5之结晶的玻璃所构成的性质;以及 当上述熔融玻璃具有该(1)与(2)之玻璃所构成之性 质时,该经成形玻璃的退火处理系在低于玻璃转化 温度的温度下施行。 17.一种光学元件之制造方法,系包含有:将由申请 专利范围第15项之压制成形用玻璃原料之制造方 法所制造之玻璃原料施行再加热,并于软化状态下 进行压制成形之步骤。 18.一种光学元件之制造方法,系包含有:将由申请 专利范围第16项之压制成形用玻璃原料之制造方 法所制造之玻璃原料施行再加热,并于软化状态下 进行压制成形之步骤。 19.如申请专利范围第15或16项之压制成形用玻璃原 料之制造方法,其中,上述玻璃原料系由含有SiO2、 TiO2及Nb2O5的玻璃所构成。 20.如申请专利范围第15或16项之压制成形用玻璃原 料之制造方法,其中,上述玻璃原料系由含有SiO2、 TiO2及Nb2O5,且TiO2与Nb2O5之总量在35重量%以上的玻璃 所构成。 21.如申请专利范围第20项之压制成形用玻璃原料 之制造方法,其中,前述压制成形用玻璃原料系进 行加热,并经软化压制成形之玻璃压制成形品制造 用之压制成形用玻璃原料者。 22.如申请专利范围第21项之压制成形用玻璃原料 之制造方法,其中,前述玻璃压制成形品系光学元 件胚料者。 23.一种压制成形用玻璃原料,系用以加热软化而进 行压制成形的如申请专利范围第7至9项中任一项 之压制成形用玻璃原料;其特征为: 系由含有当在比玻璃转化温度高出10℃的温度下 保持3小时,然后在显示104.5至103.5dPas黏度的温度 下保持10分钟后,再急速冷却至室温时,波长400至 2500nm中至少一波长的散乱系数在0.01cm-1以上,或者 体积分率高于10-5之结晶的玻璃所构成; 而在显示104.5至103.5dPas黏度的温度下保持10分钟 后,再急速冷却至室温时,波长400至2500nm之散乱系 数系低于0.005cm-1,或所含有之结晶的体积分率系低 于10-6者。 图式简单说明: 第1图系表示于实施例1、比较例1及比较例2之光学 玻璃中,依退火处理条件的结晶数量变化之图表。 第2图系表示一般玻璃之玻璃转化温度(Tg)、核形 成温度、结晶成长温度、熔融温度的关系。 第3图系表示被认为引起问题之玻璃的玻璃转化温 度(Tg)、核形成温度、结晶成长温度、熔融温度的 关系。 第4图系表示实施例10中,于再加热压制中所采用的 加热时间表。其中,从室温至575℃系以每约1小时 昇温,而575℃后的昇温则依照此加热时间表。 |
