processo de deposição quìmica por vapor para deposição de um revestimento fotocataliticamente ativo compreendendo óxido de titánio sobre a superfìcie de um substrato, e substrato fotocataliticamente ativo possuindo um revestimento de óxido de titánio sobre pelo menos uma superfìcie do mesmo

摘要

"PROCESSO DE DEPOSIçãO QUìMICA POR VAPOR PARA DEPOSIçãO DE UM REVESTIMENTO FOTOCATALITICAMENTE ATIVO COMPREENDENDO óXIDO DE TITáNIO SOBRE A SUPERFìCIE DE UM SUBSTRATO, E SUBSTRATO FOTOCATALITICAMENTE ATIVO POSSUINDO UM REVESTIMENTO DE óXIDO DE TITáNIO SOBRE PELO MENOS UMA SUPERFìCIE DO MESMO". Trata-se de revestimentos fotocatalíticos de óxido de titânio depositados por um processo de CVD ¢'chemical vapor deposition' - deposição química por vapor! mediante utilização de um composto de titânio orgânico e um composto orgânico contendo oxigênio, apresentando assim propriedades aperfeiçoadas. Os revestimentos são mais duráveis e mais macios que os revestimentos existentes e são menos suscetíveis de serem arranhados. O composto de titânio preferencial é o isopropóxido de titânio e o composto orgânico preferencial é o acetato de etila.