| 发明名称 | 金属光栅模版制作方法 | ||
| 摘要 | 金属光栅模版的制作方法，其制作过程为，通过光刻工艺中的匀胶、曝光、显影等工序在金属表面形成光刻胶光栅图形后，把金属工件作为正电极，让有光栅图形的一面与负电极相对放置在电解液中，进行电解刻蚀，光刻胶光栅图形中裸露出来的金属表面逐渐被电解脱离，形成沟槽，而被光刻胶掩蔽的金属表面被保护下来，达到刻蚀深度后取出金属模块，去胶并清洗干净，得到金属光栅模版。采用本发明工艺制作金属光栅模版，具有设备简单，成本低，刻蚀速率快，刻蚀方向性好，刻蚀面光洁度好，刻蚀图形精度高等优点。 | ||
| 申请公布号 | CN1740404A | 申请公布日期 | 2006.03.01 |
| 申请号 | CN200410009487.6 | 申请日期 | 2004.08.27 |
| 申请人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明人 | 赵泽宇;侯德胜;杜春雷;王长涛 |
| 分类号 | C25F3/14(2006.01) | 主分类号 | C25F3/14(2006.01) |
| 代理机构 | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人 | 刘秀娟;成金玉 |
| 主权项 | (1)首先通过匀胶、曝光、显影等工序，在金属工件表面形成光刻胶光栅图形，即没有光刻胶的地方金属表面裸露出来，而有光刻胶的地方金属表面被光刻胶掩蔽； | ||
| 地址 | 610209四川省成都市双流350信箱 | ||