发明名称 |
用于磁性记录介质的盘基材的制造方法 |
摘要 |
本发明的目的为提供一种在玻璃基片上镀敷的方法。所述方法允许使用化学镀膜法在玻璃材料构成的基片上形成具有极好粘合性和均一性,厚度甚至达到1微米或更高的镀膜。在使用化学镀膜S6步骤形成镀膜前,对玻璃材料构成的基片表面进行表面处理。所述表面处理过程至少包括使用稀酸水溶液将基片表面硅烷醇基数量增加至少2倍的玻璃活化处理S2步骤,硅烷偶联剂处理S3步骤,钯催化剂处理S4步骤和钯结合处理S5步骤。 |
申请公布号 |
CN1740388A |
申请公布日期 |
2006.03.01 |
申请号 |
CN200510088454.X |
申请日期 |
2005.07.27 |
申请人 |
富士电机电子设备技术株式会社 |
发明人 |
郑用一;磯亚紀良;樋口和人;栗原大;上住洋之 |
分类号 |
C23C18/00(2006.01);C23C18/31(2006.01);C23C18/18(2006.01);C23C28/00(2006.01) |
主分类号 |
C23C18/00(2006.01) |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
顾敏 |
主权项 |
1.一种在玻璃基片上镀敷的方法,所述方法包括在玻璃材料构成的基片表面上的处理过程,所述处理过程至少包括用稀酸水溶液将基片表面的硅烷醇基数量增加至少两倍的玻璃活化处理步骤,硅烷偶联剂处理步骤,钯催化剂处理步骤,和钯结合步骤;和用化学镀膜法形成镀膜的过程。 |
地址 |
日本东京 |