| 发明名称 | 包含掩模以减少微滴对准、微滴体积公差和误差影响的工业微沉积系统 | ||
| 摘要 | 一种微沉积流体材料的微滴以在衬底上确定特征图形的微沉积系统。确定衬底的特征图形。为特征图形产生掩模，该掩模减小由于微沉积头的喷嘴故障而出现缺陷的密度。根据该掩模在衬底上微沉积流体材料的微滴，以确定特征图形的子特征。为特征图形中的每个子特征指定微沉积头的一个喷嘴。可随机或利用其它方式指定喷嘴。将掩模上的指定喷嘴分配给微沉积头的多次移过中的一个。 | ||
| 申请公布号 | CN1741904A | 申请公布日期 | 2006.03.01 |
| 申请号 | CN02829964.7 | 申请日期 | 2002.11.27 |
| 申请人 | 利特斯公司 | 发明人 | 查尔斯·O·爱德华兹;戴维·阿尔伯塔利 |
| 分类号 | B41J2/12(2006.01);B41J29/38(2006.01);B05D5/06(2006.01);B05D5/12(2006.01) | 主分类号 | B41J2/12(2006.01) |
| 代理机构 | 北京德琦知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王琦;宋志强 |
| 主权项 | 1、一种使用微沉积系统微沉积流体材料的微滴以在衬底上确定特征图形的方法，包括：确定用于所述衬底的所述特征图形；建立用于所述特征图形的掩模，该掩模减小由于公差变化和微沉积头的故障喷嘴之中至少一个所造成的缺陷的密度；和根据所述掩模，在所述衬底上沉积所述流体材料的微滴，以确定所述特征图形的子特征。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚 | ||