| 发明名称 | 有源矩阵基板及制造方法、电光学装置及电子机器 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种能够减少干式法和光刻法蚀刻组合的工序次数的有源矩阵基板的制造方法等。有源矩阵基板(20)的制造方法，包括：第1工序，在基板(P)上形成使第1方向或第2方向中某一方的布线(42)在交差部(56)中被截断的栅格图案的布线(40)、(42)、(46)；第2工序，在交差部(56)以及布线(40、42、46)的一部分上形成由绝缘膜和半导体膜(30)构成的层叠部；和第3工序，形成在层叠部上与被截断的布线(42)电联接的导电层(49)以及通过半导体膜(30)与布线(42)电连接的像素电极(45)。 | ||
| 申请公布号 | CN1740886A | 申请公布日期 | 2006.03.01 |
| 申请号 | CN200510095970.5 | 申请日期 | 2005.08.29 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 野田洋一;傅田敦;平井利充;酒井真理 |
| 分类号 | G02F1/1368(2006.01);H01L29/786(2006.01) | 主分类号 | G02F1/1368(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1、一种有源矩阵基板的制造方法，其特征在于，具有：第1工序，在基板上形成使第1方向或第2方向任一方的布线在交差部中被截断的栅格图案的布线；第2工序，在所述交差部以及所述布线的一部分上形成由绝缘膜和半导体膜构成的层叠部；第3工序，形成在所述层叠部上与所述被截断的布线电联接的导电层以及通过所述半导体膜与所述布线电连接的像素电极。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||