发明名称 光学记录介质和它的制造方法
摘要 一种光学记录介质和制造这种光学记录介质的方法,该光学记录介质可以减少位于多个光学记录层之间的隔层的膜厚不均匀度,并且可以减少转印基体的扭曲影响及减少产生灰尘和毛口问题等。光学记录介质具有这样的结构:通过隔层(12)进行叠置的至少两个光学记录层(11、13)和光透射层(14)设置在介质基体(10)的至少一个表面上,其中光透射层(14)设置在光学记录层上,该光学记录介质借助通过光透射层(14)把光照射到光学记录层(11、13)上进行记录和再现,及隔层包括事先形成膜的至少一层紫外线硬化树脂膜,并且是形成有不平形状的膜,这种不平形状与记录凹陷相对应,或者这种不平形状(12p)是位于它表面上的导向槽,这种膜被硬化。
申请公布号 CN1244099C 申请公布日期 2006.03.01
申请号 CN03800440.2 申请日期 2003.03.20
申请人 索尼公司 发明人 山崎刚;行本智美
分类号 G11B7/24(2006.01);G11B7/26(2006.01) 主分类号 G11B7/24(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 马高平;杨梧
主权项 1.一种制造具有至少两个光学记录层的光学记录介质的方法,该方法包括:形成在它的一个表面上具有不平形状的介质基体的步骤,在所述介质基体的不平形状的形成表面上形成第一光学记录层的步骤,在位于所述第一光学记录层上的表面上形成具有不平形状的隔层的步骤,在所述隔层的不平形状形成表面上形成第二光学记录层的步骤,及在所述第二光学记录层上形成光透射保护层的步骤;其特征在于:形成所述隔层的步骤包括:把事先形成为膜的紫外线硬化树脂膜的一个表面粘附到所述第一光学记录层或者形成有不平形状的转印基体上的步骤;直接或者通过其它层把所述转印基体或者所述第一光学记录层压靠在所述树脂膜上并且提供没有硬化过的隔层的步骤,其中该没有硬化过的隔层包括位于所述第一光学记录层和所述转印基体之间的至少一层所述树脂膜;在使所述转印基体压靠在所述隔层的表面上的情况下,使所述隔层进行硬化的步骤;及从所述隔层中释放所述转印基体和把所述转印基体的不平形状转印到所述隔层的表面上的步骤。
地址 日本东京都