| 发明名称 | 抗蚀剂组合物 | ||
| 摘要 | 提供抗蚀剂组合物和使用该抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法，所述抗蚀剂组合物对于在浸渍光刻法中使用的溶剂是稳定的，并表现出优异的灵敏度和抗蚀剂图案轮廓。该抗蚀剂组合物符合预定的参数，或者是正性抗蚀剂组合物，所述正性抗蚀剂组合物包括含有可酸解溶解抑制基团并表现出在酸作用下碱溶解性增加的树脂组分(A)、酸生成剂组分(B)和有机溶剂(C)，其中所述组分(A)包含衍生自含可酸解溶解抑制基团的(甲基)丙烯酸酯的结构单元(a1)，但所述组分(A)不包含结构单元(a0)，而所述结构单元(a0)又包括含二羧酸酐的结构单元(a0－1)和含酚羟基的结构单元(a0－2)。 | ||
| 申请公布号 | CN1742234A | 申请公布日期 | 2006.03.01 |
| 申请号 | CN200480002955.5 | 申请日期 | 2004.01.27 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 平山拓;羽田英夫;藤村悟史;岩井武;佐藤充;高须亮一;立川俊和;岩下淳;石塚启太;山田知孝;高山寿一;吉田正昭 |
| 分类号 | G03F7/038(2006.01);G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/038(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 陈长会 |
| 主权项 | 1.一种抗蚀剂组合物，其用于包括浸渍曝光步骤的抗蚀剂图案形成方法中，其中当使用所述抗蚀剂组合物形成的膜在曝光之后或以未曝光状态浸渍于水中，并且在膜处于所述浸渍状态时通过石英振荡器法测定所述膜的厚度变化时，对于曝光膜和未曝光膜两者而言，在所述膜开始测量的10秒之内，所述膜厚的最大增加都不超过1.0nm。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||