发明名称 |
有机物蒸镀装置 |
摘要 |
本发明提供一种将基片直立为约垂直的状态下蒸镀有机物而形成有机薄膜的有机物蒸镀装置,以此不仅可以适用于大型基片,而且可以形成厚度均匀的有机薄膜。本发明所提供的有机物蒸镀装置,包含:室,用于形成壳体并使基片相对地面保持在70°至110°角度;有机物存入部,由用于接收需要蒸镀所述基片上有机物的至少一个有机物存入处组成;有机物喷嘴部,用于喷射需要蒸镀到所述基片上的有机物;连接管道,用于连接所述有机物喷嘴部和有机物存入部;移送装置,用于在所述有机物存入部、有机物喷嘴部和连接管道之中至少可以将所述有机物喷嘴部按垂直方向移动。 |
申请公布号 |
CN1740378A |
申请公布日期 |
2006.03.01 |
申请号 |
CN200510093332.X |
申请日期 |
2005.08.25 |
申请人 |
三星SDI株式会社 |
发明人 |
许明洙;韩尚辰;安宰弘;郑锡宪;金度根 |
分类号 |
C23C14/12(2006.01);C23C14/24(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/12(2006.01) |
代理机构 |
北京铭硕知识产权代理有限公司 |
代理人 |
韩明星;李云霞 |
主权项 |
1、一种有机物蒸镀装置,其特征在于包含:室,用于形成壳体并使基片相对地面保持在70°至110°角度;有机物存入部,由用于接收需要蒸镀到所述基片上的有机物的至少一个有机物存入处组成;有机物喷嘴部,用于喷射需要蒸镀到所述基片上的有机物;连接管道,用于连接所述有机物喷嘴部和有机物存入部;移送装置,用于在所述有机物存入部、有机物喷嘴部和连接管道之中至少可以将所述有机物喷嘴部按垂直方向移动。 |
地址 |
韩国京畿道 |