| 主权项 |
1.一种阴极电弧蒸镀类钻碳膜之制备方法,其主要乃系利用阴极电弧蒸镀法沈积类钻碳膜制程中,利用高离化率之金属弧源所提供之高能量电浆与通入之碳氢气体产生裂解及沈积反应,形成含金属渗入物之类钻碳膜,并经由调整基材偏压于-100V--300V、碳氢气体分压介于0.5PA-5.0PA以及反应气体种类及弧源靶材之种类,而达其制成具有不同机械性质之含金属类钻碳膜。2.根据申请专利范围第1项所述之阴极电弧蒸镀类钻碳膜之制备方法,在蒸镀程序中,其金属弧源可先行沈积金属、金属氮化物或金属碳化物介层以提高类钻碳膜之附着力。3.根据申请专利范围第2项所述之阴极电弧蒸镀类钻碳膜之制备方法,其中该添加之金属介质为可形成金属氮化物或金属碳化物之金属如铬、钛或锆等,即可提升类钻碳膜之韧性。4.根据申请专利范围第1项所述之阴极电弧蒸镀类钻碳膜之制备方法,其中该弧源部份可采用随机式弧源、操控式弧源或过滤式弧源。5.根据申请专利范围第1项所述之阴极电弧蒸镀类钻碳膜之制备方法,在通入碳氢气体产生裂解及沈积反应之同时可加入杂质原子,如氮原子,即可提升类钻碳膜之韧性。6.根据申请专利范围第1项所述之阴极电弧蒸镀类钻碳膜之制备方法,其中该基材偏压形式可采用直流、脉波或RF电源供应器。 |
