微影制程

摘要

一种微影制程，其系首先在一基底之上方形成一光阻层。之后，在光阻层之上方设置一第一光罩，且第一光罩上具有一高密度图案。之后，进行一第一曝光步骤，以将高密度图案转移至光阻层，其中第一曝光步骤之曝光能量系为E1。之后，再于光阻层之上方设置一第二光罩，且第二光罩上具有一低密度图案。随后，进行一第二曝光步骤，以将低密度图案转移至光阻层，其中第二曝光步骤之曝光能量系为E2，且E2大于E1。最后，进行一显影步骤，以图案化光阻层。