显像装置和显像方法

摘要

本发明提供一种显像装置和显像方法，使在表面上涂布抗蚀剂、曝光后的基板旋转，并供给显像液，控制显像液的液体流动，在基板上形成面内均匀性高的图形。在使在作为基板保持部的旋转夹头(2)上保持水平的基板例如晶片(W)，围绕垂直轴正转，使与该基板的表面相对设置的具有从该基板的周边边缘向部测延伸的带状喷出口(41)的显示液喷嘴(4)，从基板外侧向着部移动，并将显像液供给其表面。在将显示液供给基板表面后，使该基板反转。在这种情况下，由于通过从正转变至反转，基板上的显像液的液体流动图形改变，显像液可以容易地到达基板上的图形的细小部分。结果，可以得到显像后面内均匀性高的图形。

主权项

1.一种显像装置，可对表面上涂布涂布液、曝光后的基板进行显像，其特征为，具有：将所述基板保持为水平的基板保持部；使该基板保持部围绕着垂直轴正转或反转的旋转驱动机构；与由所述基板保持部保持的基板表面相对地配置，具有从该基板的周边边缘向中央部侧延伸的带状的喷出口的显像液喷嘴；从基板外侧向中央部移动该显像液喷嘴的移动机构；和控制部，其进行如下控制：在利用所述旋转驱动机构使基板正转，并从所述喷出口喷出显像液且使显像液喷嘴移动而向基板表面供给显像液后，利用旋转驱动机构使该基板反转。