一种磁控及非平衡式磁控物理溅镀ZrCN于微型钻头的方法

摘要

一种磁控及非平衡式磁控物理溅镀ZrCN于微型钻头的方法，是使用磁控及非平衡式磁控物理溅镀方式，针对炉内温度、偏压、表面清洁、以及所导入气体的流量做良好的控制，将超硬膜溅镀在微小钻头上，以增加钻头本身的强度、耐磨耗度，以及表面光滑度，如此可延长钻头的使用寿命，并且增加排屑能力，以改善钻孔的品质。

主权项

1.一种磁控及非平衡式磁控物理溅镀ZrCN于微型钻头的方法，其特征在于，其包括以下步骤：a.将微型钻头戴入治具中；b.将治具置于溅镀炉内，并进行抽真空，然后再利用电热器将溅镀炉内的工作温度加热；c.激活高电压电源供应器并施予一负偏压。d.进行离子轰击，施予离子一正电压，并利用离子的正电压与高电压电源供应器的负偏压做一交集，使其能形成一高电压，以分阶段的方式来进行离子轰击，以去除微型钻头表面的氧化层；e.之后再利用磁弧溅射镀膜在微型钻头表面上，使其成为多层膜层，其中该多层膜层的沉积顺序由下往上是：Ti→Ti+Zr→Zr→ZrN→ZrCN，依该沉积顺序来将靶材镀膜到微型钻头上；f.再来是将微型钻头冷却；g.最后将微型钻头从治具中卸载下来。