| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本申请公开一种基板处理装置，其具有：包含供收容有多片基板的载体输入输出的载体输入输出部、以及相对于载置于该载体输入输出部上的载体进行基板的传递的第1传递部的载体工作站，在所说载体工作站的第1方向上与所说载体工作站相邻接地设置的、包含在基板上涂布抗蚀液的涂布部、对曝光后的基板进行显影的显影部、相对于涂布部及显影部进行基板的传递并与所说第1传递部之间进行基板的传递的主输送部的处理工作站，在所说第1方向上设置在曝光装置与所说处理工作站之间的、用来与所说曝光装置之间进行基板的传递的接口工作站，在与所说第1方向大致垂直的第2方向上，与所说载体工作站、所说处理工作站、或所说接口工作站相邻接地设置的、具有对基板进行检查的第1检查部的第1检查工作站。 | ||
| 申请公布号 | CN1737995A | 申请公布日期 | 2006.02.22 |
| 申请号 | CN200510093927.5 | 申请日期 | 2001.07.12 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 佐藤纪胜;绪方久仁惠;木村义雄;富田浩;中岛清次;神谷英彦 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/66(2006.01);H01L21/68(2006.01);G03F7/00(2006.01);G03F7/20(2006.01);B65G49/05(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 赵辛 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，其特征是，具有：包含供收容有多片基板的载体输入输出的载体输入输出部、以及相对于载置于该载体输入输出部上的载体进行基板的传递的第1传递部的的载体工作站，在所说载体工作站的第1方向上与所说载体工作站相邻接地设置的、包含在基板上涂布抗蚀液的涂布部、对曝光后的基板进行显影的显影部、相对于涂布部及显影部进行基板的传递并与所说第1传递部之间进行基板的传递的主输送部的处理工作站，在所说第1方向上设置在曝光装置与所说处理工作站之间的、用来与所说曝光装置之间进行基板的传递的接口工作站，在与所说第1方向大致垂直的第2方向上，与所说载体工作站、所说处理工作站、或所说接口工作站相邻接地设置的、具有对基板进行检查的第1检查部的第1检查工作站。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||