| 发明名称 | 在角部利用倒角与修圆的光学邻近校正 | ||
| 摘要 | 公开了一种优化将形成在衬底上的设计的方法。该方法包括近似修圆所述设计的图像的至少一个角部；进而对所述至少一个角部的近似修圆生成所述设计的表达；生成用于成像基于所述表达的所述设计的掩模的初始表达；以及进而对所述掩模的初始表达实施光学邻近校正(OPC)。 | ||
| 申请公布号 | CN1737694A | 申请公布日期 | 2006.02.22 |
| 申请号 | CN200510074132.X | 申请日期 | 2005.04.09 |
| 申请人 | ASML蒙片工具有限公司 | 发明人 | T·莱迪;M·F·A·尤尔龄斯 |
| 分类号 | G03F9/00(2006.01) | 主分类号 | G03F9/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 梁永 |
| 主权项 | 1.一种优化将在衬底上形成的设计的方法，包括如下步骤：(a)近似修圆所述设计的图像的至少一个角部；(b)进而对至少一个角部的所述近似修圆生成所述设计的表达；(c)生成用于成像基于所述表达的所述设计的掩模的初始表达；以及(d)进而对所述掩模的初始表达实施光学邻近校正(OPC)。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||