发明名称 掺镱硅酸钇镥激光晶体及其制备方法
摘要 一种掺镱硅酸钇镥激光晶体及其制备方法,该晶体的化学式为:(Yb<SUB>x</SUB>Lu<SUB>y</SUB>Y<SUB>1-x-y</SUB>)<SUB>2</SUB>SiO<SUB>5</SUB>,其中x和y的取值范围是:0.001≤x≤0.5,0<y≤0.8。本发明晶体采用提拉法生长,该晶体兼有宽发射半高宽、较高热导率和容易制备的优点,本发明生长的晶体有较大尺寸、晶体光学质量高、完整无开裂,可用于宽带调谐超快激光技术领域。
申请公布号 CN1737219A 申请公布日期 2006.02.22
申请号 CN200510028599.0 申请日期 2005.08.09
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明人 严成锋;赵广军;徐军;苏良碧;徐晓东;张连翰;庞辉勇;宗艳花
分类号 C30B29/34(2006.01);C30B15/00(2006.01) 主分类号 C30B29/34(2006.01)
代理机构 上海新天专利代理有限公司 代理人 张泽纯
主权项 1、一种掺镱硅酸钇镥激光晶体,特征是其化学式为:(YbxLuyY1-x-y)2SiO5,其中x和y的取值范围是:0.001≤x≤0.5,0<y≤0.8。
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