| 发明名称 | 超紫外线光刻的多层镜射保护 | ||
| 摘要 | 本案提供一种适用于超紫外线光刻的反射器结构。该结构包含具有多层反射器的一基板。封盖层形成于该多层反射器上来避免氧化。一实施例中，封盖层乃由一惰性氧化物，如Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>，HfO<SUB>2</SUB>，ZrO<SUB>2</SUB>，Ta<SUB>2</SUB>O<SUB>5</SUB>，Y<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>稳定ZrO<SUB>2</SUB>或类似者所形成。该封盖层可藉由在有氧环境中的反应性溅射，其中物质从各氧化标的而直接溅射的非反应性溅射，之后全部或部分氧化(如藉由自然氧化，含等离子体的氧的氧化，臭氧(O<SUB>3</SUB>)氧化或类似者)的金属层非反应性溅射，原子位准沉积(如ALCVD)或类似者来形成。 | ||
| 申请公布号 | CN1737687A | 申请公布日期 | 2006.02.22 |
| 申请号 | CN200510087957.5 | 申请日期 | 2005.07.28 |
| 申请人 | 因芬尼昂技术股份公司 | 发明人 | S·施瓦尔兹;S·伍姆 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F7/00(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张雪梅;梁永 |
| 主权项 | 1.一种适用于超紫外线或软x射线应用的反射装置，该反射装置包含：一基板；一多层反射器，形成于该基板上；及一封盖层，形成于该多层反射器上，该封盖层包含在氧化环境中为化学惰性的氧化物。 | ||
| 地址 | 德国慕尼黑 | ||