| 发明名称 | 荧光辉度测量方法及装置 | ||
| 摘要 | 照射激励标识荧光物质的波长光，得到荧光图像(101)，由从照射不激励所述荧光物质的波长光所得到的附在所述被测量物上的异物图像(102)中抽取的异物区域图像(103)形成掩膜，取该掩膜与所述荧光图像(101)的逻辑积，由此得到从所述荧光图像(101)中去除异物区域后的荧光图像(104)。 | ||
| 申请公布号 | CN1243231C | 申请公布日期 | 2006.02.22 |
| 申请号 | CN01821384.7 | 申请日期 | 2001.11.16 |
| 申请人 | 奥林巴斯光学工业株式会社 | 发明人 | 芝崎尊己;大川金保 |
| 分类号 | G01N21/64(2006.01) | 主分类号 | G01N21/64(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 黄剑锋 |
| 主权项 | 1、一种荧光辉度测量方法，测量包含排列在具有大致平面的基板上的荧光物质的微小点的辉度，其特征在于：包含第1摄像步骤，照射可激励所述荧光物质的波长的光，取得包含荧光物质的微小点的图像，作为第1图像；第2摄像步骤，通过照射不激励所述荧光物质的波长的光，取得附在所述基板上的异物的图像，作为第2图像；抽取步骤，从该第2图像中抽取异物区域，得到2值化图像；和异物去除步骤，将该2值化图像作为掩膜，使所述第1图像中与异物区域重合的部分的图像无效。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||