| 主权项 |
1.一种光罩保护膜,包括光罩保护膜框架及人造矽玻璃所构成之光罩保护膜薄层,该光罩保护膜薄层藉由粘着剂与光罩保护膜框架的中空部分相互连结,其特征为提供有一种用于遮蔽辐射至该粘着剂的紫外线之光线遮蔽构件。2.如申请专利范围第1项之光罩保护膜,其中该光线遮蔽构件系由金属或金属氧化物所组成。3.如申请专利范围第2项之光罩保护膜,其中该光线遮蔽构件系由铬、铁或铜及其合金所构成之群组所选出的至少一种金属所构成。4.如申请专利范围第2项之光罩保护膜,其中该光线遮蔽构件系由氧化铬、矽土及氧化铝所构成之群组所选出的至少一种金属氧化物所组成。5.如申请专利范围第1项、第2项、第3项或第4项之光罩保护膜,其中该光线遮蔽构件系设置于光罩保护膜薄层的前方表面。6.如申请专利范围第1项、第2项、第3项或第4项之光罩保护膜,其中该光线遮蔽构件系设置于光罩保护膜框架与光罩保护膜薄层之间。7.如申请专利范围第1项、第2项、第3项或第4项之光罩保护膜,其中该光线遮蔽构件系一种具有厚度50nm或更大的薄层或薄板。8.一种使用光罩保护膜之方法,其特征为使用申请专利范围第1项之光罩保护膜,而且使用光罩保护膜于暴露光线至原始图案薄板之前,紫外线辐射至光罩保护膜薄层的表面。9.如申请专利范围第8项之使用光罩保护膜之方法,其中该紫外线的波长为220nm或更短。10.如申请专利范围第8项之使用光罩保护膜之方法,其中该紫外线系来自于准分子灯或F2雷射光的辐射光线。图式简单说明:图1系为本发明第一实施例的光罩保护膜之立体图,其中该光罩保护膜系与原始图案薄板相连接;图2系沿着图1的线A-A所取出的截面图;图3系为本发明第二实施例的光罩保护膜之截面图,该截面系由图1的线A-A所取出;图4系为习知光罩保护膜之立体图,其中该光罩保护膜系与原始图案薄板相连接;而且图5系沿着线A-A所取出的截面图。 |
