自排放研磨轮系统及方法

摘要

提供了一种用于在清洁操作中防止积聚的流体转移到晶片上的系统和方法。具体地，当通过多个自排放研磨轮固定晶片时，所有接触该自排放研磨轮的流体都朝向每个自排放研磨轮的底面被引导离开晶片。通过制造具有不同结构的自排放研磨轮的底部而进行引导。不同的结构增强了将流体引导离开晶片。为了进一步防止流体弄湿自排放研磨轮的底面，可将研磨轮干燥器大致定位在至少一个自排放研磨轮的附近，以通过使用该研磨轮干燥器的真空通道抽吸流体离开所述底面。

主权项

1、一种用于加工晶片的方法，该方法包括：利用多个围绕晶片周边定位的研磨轮支撑晶片，所述多个研磨轮能够转动，以使所述晶片转动；使得存在于所述晶片表面上的流体朝向所述多个研磨轮运动，以到达形成在所述晶片的边缘与所述多个研磨轮中每一个的表面之间的界面；以及引导接触所述多个研磨轮的流体离开所述界面，该流体的引导被设置成防止流体在该界面处形成弯月面。