| 发明名称 | 等离子体处理装置用的部件、处理装置用的部件、等离子体处理装置、处理装置以及等离子体处理方法 | ||
| 摘要 | 根据本发明，在使得由处理容器内的铝合金构成的被处理体的温度处于预定温度的状态下，从处理气体供给源向处理容器内导入氧气和氪气的混合气体，通过微波在处理容器内产生等离子体。通过由此而产生的氧自由基在被处理体的表面进行自由基氧化处理，可在被处理体的表面形成致密且耐腐蚀性强的氧化物覆膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1738920A | 申请公布日期 | 2006.02.22 |
| 申请号 | CN200480002225.5 | 申请日期 | 2004.01.14 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社;大见忠弘 | 发明人 | 大见忠弘;白井泰雪;北野昌史 |
| 分类号 | C23C8/36(2006.01);H05H1/46(2006.01);H01J37/32(2006.01);C22C21/06(2006.01) | 主分类号 | C23C8/36(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 柳春雷 |
| 主权项 | 1.一种等离子体处理装置用的部件，被使用于实施等离子体处理的等离子体处理装置中，且至少其中一部分暴露于等离子体中，其中，所述部件由铝或铝合金构成，并在暴露于等离子体中的部分的表面上具有由等离子体处理进行氧化所得的氧化物覆膜。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||