发明名称 等离子体加工装置
摘要 在此公开一种等离子体加工装置。该等离子体加工装置包括一个供气装置,该供气装置包括:多个在水平方向上传送加工气体的输气管;多个散气部件,其向下连接至输气管的另一端或中部,从而向下扩散和喷洒通过输气管供应的加工气体;以及一个将加工气体均匀排入等离子体加工装置内的莲蓬头。所述供气装置结构简单、重量减轻,从而降低制造成本并且使得可以容易地安装与操作。另外,所述供气装置可无泄漏地将加工气体供应至所述等离子体加工装置内。
申请公布号 CN1737186A 申请公布日期 2006.02.22
申请号 CN200510092801.6 申请日期 2005.08.18
申请人 爱德牌工程有限公司 发明人 李荣钟;崔浚泳;黄荣周;曺生贤
分类号 C23C14/32(2006.01);C23F1/08(2006.01);H01L21/00(2006.01) 主分类号 C23C14/32(2006.01)
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 朱登河;王学强
主权项 1.一种用于在真空状态下产生等离子体并利用所产生的等离子对一目标物实施一预定加工的等离子体加工装置,其包括:一个供气装置,其中该供气装置包括:多个输气管,其在一个上电极之下平行于该上电极的下表面安装,并且所述输气管的一端连接至一个供气通路而在水平方向传送来自等离子体加工装置外的加工气体;多个散气部件,其向下地连接至输气管的另一端或中间部,以向下扩散和喷洒通过输气管供应的加工气体;以及一个莲蓬头,其设在散气部件下面并具有多个散气孔而将加工气体均匀地排入所述等离子体加工装置内。
地址 韩国京畿道