发明名称 |
制造液晶显示器的曝光掩模及利用该掩模制造液晶显示器时曝光基板的方法 |
摘要 |
一种用于利用基板制造液晶显示器的掩模,包括具有中心线的位于基板中心的第一掩模图形,以对基板中心进行曝光。第二掩模图形位于第一掩模图形左侧,以对基板左侧进行曝光。该第二掩模图形与第一掩模图形相距第一距离。第三掩模图形位于第一掩模图形右侧,以对基板右侧进行曝光。第三掩模图形与第一掩模图形相距第二距离。 |
申请公布号 |
CN1243285C |
申请公布日期 |
2006.02.22 |
申请号 |
CN02802928.3 |
申请日期 |
2002.03.04 |
申请人 |
三星电子株式会社 |
发明人 |
卓英美;朴云用;洪雯杓;李庭镐 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01);G09F9/30(2006.01);G02F1/133(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
李晓舒;魏晓刚 |
主权项 |
1.一种利用基板制造液晶显示器的掩模,该掩模包括:具有中心线的位于基板中心的第一掩模图形,以对基板中心进行曝光;位于第一掩模图形左侧的第二掩模图形,以对基板左侧进行曝光,第二掩模图形与第一掩模图形相隔第一距离;以及位于第一掩模图形右侧的第三掩模图形,以对基板右侧进行曝光,第三掩模图形与第一掩模图形间隔第二距离。 |
地址 |
韩国京畿道 |