发明名称 改良式水构盖结构
摘要 本创作系提供一种改良式水沟盖结构,特别是经由结构之改良设计,使其整体制造成本得以大幅减降,并能兼顾其盖覆之稳固性者;其结构设计上,主要是由二个可以相互契合套组之盖板组成水沟盖雏型,该等盖板乃设有适当高度之侧板,而其落水孔之孔缘板片高度亦与侧板相符,藉以于二盖板套组结合后,特得于其内部形成一容置空间,藉以得由其中一盖板预留之孔槽灌注混凝土、铁砂等材料以增进其整体的重量,同时在其外部得进一步包覆橡(塑)胶外层,以增进其整体外观质感,并有效避免碰撞噪音,另于其侧边得进一步制设限位凸块,藉以配合槽座内缘对应预制的限位凹槽形成嵌卡定位,以维持水沟盖的盖设组配状态,避免稍受外力即移位开启,从而可维持其组配稳固性者。
申请公布号 TWM287833 申请公布日期 2006.02.21
申请号 TW094211686 申请日期 2005.07.11
申请人 谢志忠;王仁志 彰化县和美镇鹿和路5段290巷19号 发明人 谢志忠;王仁志
分类号 E03F5/06 主分类号 E03F5/06
代理机构 代理人
主权项 1.一种改良式水沟盖结构,其型态及规格乃配合槽 座而设计,使其按装上得将水沟盖覆置于槽座内, 于水沟盖上并贯设有数落水孔;其特征系在于:该 水沟盖乃系由二金属片材冲压成型的盖板覆合组 成,于二盖板周边乃成型有预定高度之侧板,而在 盖板表面布设之多数落水孔的孔缘亦一体成型有 与前述侧板等高之板片,藉以使上、下二盖板对向 覆合后,将得利用该等侧板及落水孔孔缘板片的相 互交叠而使二盖板覆合构成一封闭空间者。 2.一种改良式水沟盖结构,其型态及规格乃配合槽 座而设计,使其按装上得将水沟盖覆置于槽座内, 于水沟盖上并贯设有数落水孔;其特征系在于:该 水沟盖的周边部位乃一体成型制设有多数限位凹 槽,而该等槽座的对应部位则制设有契合之限位凸 块,且在该等限位凹槽与限位凸块的接触面更可进 一步制设对应之肋槽与凸肋,俾可藉该等限位凸块 与限位凹槽的契合卡制,特可稳固维持水沟盖与槽 座之盖覆组配关系者。 3.依据申请专利范围第1项所述之改良式水沟盖结 构,其中该水沟盖的内部空间乃得充填灌注配重材 料,藉以增加其整体重量者。 4.依据申请专利范围第1项所述之改良式水沟盖结 构,其中该水沟盖之其中一盖板乃预制有孔槽,藉 以将配重材料充填灌注于水沟盖内部,并得以封盖 填塞封阻该等孔槽者。 5.依据申请专利范围第1项所述之改良式水沟盖结 构,其中该水沟盖之二盖板乃得增设补强肋槽,以 提升其整体结构强度者。 6.依据申请专利范围第1项所述之改良式水沟盖结 构,其中该水沟盖外层乃包覆有橡(塑)胶材料者。 7.依据申请专利范围第2项所述之改良式水沟盖结 构,其中该槽座之限位凸块两侧乃得制设剖槽,藉 以赋予适当弹压变形裕度者。 8.依据申请专利范围第2项所述之改良式水沟盖结 构,其中该水沟盖之限位凹槽与槽座之限位凸块接 触面所设的肋槽与凸肋,乃得为对应之半圆、齿状 或倒齿状等型态者。 图式简单说明: 第1图:系习知铸铁式水沟盖之结构示意图。 第2图:系本创作水沟盖较佳实施例之结构分解示 意图。 第3图:系本创作水沟盖另一较佳实施例之结构分 解示意图。 第4图:系本创作水沟盖之组配结构关系示意图。 第5图:系本创作水沟盖与槽座之结构分解示意图 。 第6图:系本创作水沟盖与槽座之结构关系示意图 。 第7图:系本创作水沟盖与槽座较佳实施例之局部 结构关系示意图。 第8图:系本创作水沟盖与槽座另一较佳实施例之 局部结构关系示意图。
地址 彰化县和美镇和光路242号