| 主权项 |
1.一种用来即时重定寸一图案并将其影像动态地 光微影移转至一表面上的方法,该方法的特征在于 : 产生该图案之第一列表,其含有代表该图案的第一 像元资料; 产生该图案之第二列表,其含有代表该图案的第二 像元资料,在第二列表中的图案会与第一列表中的 图案空间偏移;及 选择第一和第二像元资料的某些部份来形成重定 寸图案,并将其影像动态地光微影移转至该表面上 。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中产生第一列表 乃包括在相对于一空间光调制器之光调制元件阵 列的第一次位置校准时,将该图案映制于该阵列上 ;而产生第二列表系包括在相对于该阵列的第二次 位置校准时将该图案映制于该阵列上。 3.一种用来即时重定寸一图案并将其影像动态地 光微影移转至一表面上的方法,该方法的特征在于 : 产生该图案之二或多个空间偏差列表,每一空间偏 差列表皆含有代表该图案之各像元资料,该图案会 在各列表之间空间偏移; 测量一失真变形;及 由该二或多个空间偏差列表的某些部份选择像元 资料作为该变形的函数,而来制成重定寸的图案并 将其影像动态地光微影移转至该表面上。 4.如申请专利范围第3项之方法,该测量更包含: 在相对于一可操作显像设在该表面上之至少一校 准特征的影像感测器之至少一位置处来定位该表 面;及 计算出该表面上之至少一校准特征的位置来判断 该表面的变形。 5.如申请专利范围第3项之方法,其中该选择更包含 : 设定一失准界限値;及 由该二或更多空间偏差列表的某些部份选出像元 资料,其会造成该图案相对于该表面之失准値作为 该表面的变形函数而小于该失准界限値。 6.如申请专利范围第3项之方法,更包含: 藉着插组取自该各空间偏差列表的像元资料来储 存该等空间偏差列表的像元资料。 7.一种动态光微影系统,包含一空间光调制器含有 光调制元件等可动态地光微影移转一图案之影像 于一表面上,该系统的特征在于: 一影像处理系统可操作来产生并储存该图案之二 或更多的空间偏差列表,每一空间偏差列表皆包含 对应的像元资料可辨认该空间光调制器中代表该 图案之各光调制元件,该图案在该各列表之间会空 间偏移,该影像处理系统亦可操作来将对应于该图 案之二或更多空间偏差列表中之所择部份的所择 像元资料载入该空间光调制器内。 8.如申请专利范围第7项之动态光微影系统,其中该 空间光调制器包含作用光调制元件和保留光调制 元件等,而被载入该空间光调制器的所择像元资料 系对应于至少一部份的作用光调制元件。 9.如申请专利范围第7项之动态光微影系统,其中该 影像包含多数的次影像,而被载入该空间光调制器 的像元资料系代表一次影像的至少一部份。 10.如申请专利范围第7项之动态光微影系统,其中 该表面具有一失真变形,且该影像处理系统更可操 作来设定一失准界限値,而该二或更多列表的所择 部份会造成该图案相对于该表面之失准値作为该 表面的变形函数其系小于该失准界限値。 图式简单说明: 第1图示出本发明一实施例之动态光微影系统,其 可利用一空间光调制器来将一影像光微影地移转 至一基材上; 第2A图为一使用液晶光调制元件之空间统调制器 的分解; 第2B图为第2A图之液晶光调制元件的截面图; 第3A及3B图示出在一光调制元件阵列上之二具有不 同尺寸的图案列表; 第4A~4D图示出依据本发明实施例之在一光调制元 件阵列上的图案空间偏差列表; 第5图为依本发明实施例之一重新定寸图案的列表 ,其系利用第4A~4D图中之二空间偏差列表的某些部 份所形成者; 第6图为依本发明实施例之第1图的动态光微影系 统一部份,其含有一相机可测量在该基材表面中的 扭曲变形; 第7A图为一影像处理系统例的方块图,其可产生及 储存该等空间偏差列表,并控制第1图的动态光微 影系统; 第7B图示出一处理单元可选择该影像之空间偏差 列表的某些部份来产生一重新定寸图案的列表; 第8图示出将该影像之次影像移转至基材表面上的 时间顺序; 第9A与9B图示出本发明之一实施例的影像重新定寸 技术; 第10图示出本发明之另一实施例的影像重新定寸 技术; 第11图示出使用第10图的影像重新定寸技术来将该 影像之重新定寸的次影像移转至基材表面的时间 顺序; 第12图为一流程图示出依本发明之实施例来即时 地重新定寸一图案,并将该重新定寸图案的影像动 态地光微影移转至一表面上的方法; 第13图为一流程图示出依本发明之实施例来即时 地重新定寸一图案作为变形函数的方法; 第14图为一流程图御出依本发明之实施例利用一 失准界限値来由该影像之二或多个空间偏差列表 将资料载入该空间光调制器的方法;及 第15图为用来储存该影像之各空间偏差列表的像 元资料之资料插组技术示意图。 |
