发明名称 金属防磁易开盖结构改良
摘要 本创作系提供一种金属防磁易开盖结构改良,其系由可防止电磁波辐射防磁盖、易开盖、屏遮体所组成;可防止电磁波辐射之防磁盖,其上之易开盖系以锯齿形状向下冲成断差,形成一锯齿面及间隔面;再经过回压压平可使锯齿面及间隔面的咬合度达到最佳状态,俾使易开盖不致因碰撞而造成脱落之情形,又其易开盖之表面有散热孔,可利于维修时将易开盖拔除。
申请公布号 TWM288094 申请公布日期 2006.02.21
申请号 TW094218634 申请日期 2005.10.28
申请人 智强科技精密股份有限公司 发明人 曹耀隆
分类号 H05K9/00 主分类号 H05K9/00
代理机构 代理人
主权项 1.一种金属防磁易开盖结构改良,其系由可防止电 磁波辐射之防磁盖、易开盖、屏遮体所组成,其中 ; 可防止电磁波辐射之防磁盖,其上之易开盖系以锯 齿形状向下冲成断差,形成一锯齿面及间隔面;再 经过回压压平使锯齿面及间隔面的咬合度达到最 佳状态,俾使易开盖不致因碰撞而造成脱落之情形 ,又其表面有散热孔可利于维修时将易开盖拔除。 2.如申请专利范围第1项所述之金属防磁易开盖结 构改良,其中该屏遮体为一框形,且该框形顶端呈 一平面,而该平面之侧边又形成有一垂直面,又该 平面及垂直面间形成有一容置空间。 3.如申请专利范围第1项所述之金属防磁易开盖结 构改良,其中该易开盖形成之锯齿面及间隔面,可 有效的截断电磁波的辐射。 图式简单说明: 第一图系习用之立体图。 第二图系本创作之立体图。 第三图系本创作之剖视图。 第四图系本创作之实施例图。 第五图系本创作之进一步实施例图。
地址 台北县林口乡工二工业区工九路26号