| 主权项 |
1.一种校准工具,其包含: 一基板台,其用以支承一具有一基板记号之基板, 其中该基板记号可位在不同于该基板其余表面之 平面高度;及 一校准系统,其利用一辐射校准光束来侦测在一参 考记号及该基板记号之间的对准度, 其特征为当侦测该对准度时,藉由一可移动地定位 在校准光束中之光学元件来调整该校准系统之焦 点平面,俾将校准光束聚合在该位在不同于该基板 其余表面之平面高度上的基板记号。 2.根据申请专利范围第1项之校准工具,其中该光学 元件为一平面板。 3.根据申请专利范围第1或2项之校准工具,其中该 光学元件调整该校准系统之焦点平面至多达2毫米 。 4.根据申请专利范围第1或2项之校准工具,其中该 光学元件调整该校准系统之焦点平面至少0.1毫米 。 5.根据申请专利范围第1或2项之校准工具,其中该 校准系统包含一投影校准系统,且该光学元件系直 接设置在该投影校准系统之后的校准光束中。 6.根据申请专利范围第1或2项之校准工具,其中该 光学元件附接至该基板台。 7.根据申请专利范围第1或2项之校准工具,其进一 步包含正面至背面校准光学组件,其可将校准光束 导引至基板背面,且其中该光学元件系设置在该正 面至背面校准光学组件的入口。 8.根据申请专利范围第1或2项之校准工具,其中该 光学元件沿着投影光束之位置系可变换,以调整该 投影光束之焦点平面。 9.根据申请专利范围第1或2项之校准工具,其中具 有复数个可更换之光学元件。 10.根据申请专利范围第9项之校准工具,其中该复 数个可更换之光学元件具有不同之厚度。 11.根据申请专利范围第9项之校准工具,其中该复 数个可更换之光学元件具有不同之光学特性。 12.根据申请专利范围第11项之校准工具,其中该不 同光学特性为不同折射率。 13.根据申请专利范围第12项之校准工具,其中该光 学元件系中空的,每一光学元件皆充填一具有不同 折射率之流体。 14.根据申请专利范围第1或2项之校准工具,其中该 光学元件为中空且充填一流体,该流体之成份系可 调整的,以改变该光学元件之折射率。 15.根据申请专利范围第14项之校准工具,其中该光 学元件之折射率系藉由改变该流体之盐浓度而改 变。 16.根据申请专利范围第14项之校准工具,其中该光 学元件之折射率系藉由改变该光学元件中之两流 体之混合物的比例而改变,且每一流体具有不同的 折射率。 17.根据申请专利范围第1或2项之校准工具,其中在 该校准光束之路径中具有复数个可移动定位之光 学元件,使得一个或多个光学元件可以同时位在该 校准光束之路径中。 18.根据申请专利范围第1或2项之校准工具,其中该 光学元件系在平行于该校准光束之行进方向的方 向上调整该校准系统之焦点平面。 19.根据申请专利范围第1或2项之校准工具,其中该 光学元件系在垂直于该校准光束之行进方向的方 向上调整该校准系统之焦点平面。 20.一种微影投影装置,其包含: -一照射系统,其用来供应一投影辐射束; -一支撑结构,其用来支撑图案形成构件,该图案形 成构件用来使该投影束依据一所需图案来形成图 案; -一投影系统,其用以将该图案光束投射在该基板 之一目标部位上;及 -一依照前述申请专利范围任一项所述之校准工具 。 21.根据申请专利范围第20项之装置,其中该校准光 束系行经该投影光束之至少一部分。 22.一种校准方法,其包含以下之步骤: -提供一具有一基板记号之基板,该基板记号可位 在与该基板其余表面不同之平面高度; -提供一辐射校准光束;及 -提供一校准系统,以将该辐射校准光束投射在该 基板记号上; 其特征为在侦测该对准度时,藉由将一光学元件插 置在校准光束中,以将校准光束聚合在该位在不同 于该基板其余表面之平面高度上的基板记号上。 23.一种元件制造方法,其包含以下之步骤: -以一辐射敏感材料层至少部分地覆盖基板; -利用一照射系统来提供一辐射投影光束; -利用图案形成构件来使该投影光束在其截面上具 有一图案; -将该具有图案之辐射光束投影在该辐射敏感材料 层之一目标部分上;及 -一依照申请专利范围第22项所述之校准方法。 24.一种依照申请专利范围第23项所述之方法所制 造之元件。 图式简单说明: 图1系描绘依照本发明之一实施例之微影投影装置 ; 图2系一示意图,其中显示在本发明之一实施例之 微影装置中的光学元件; 图3系一示意图,其中显示针对一被蚀刻较深之校 准记号之光学元件的配置; 图4系一示意图,其中显示一与正面至背面校准光 学组件配合使用之光学元件; 图5系一示意图,其中显示在一微影装置中之光学 元件的另一种配置方式; 图6系一示意图,其中显示在一微影装置中之光学 元件之又另一种配置方式; 图7系一示意图,其中显示用以调整X及/或Y方向之 焦点之光学元件的配置; 图8系一示意图,其中显示用以调整X及/或Y方向之 焦点之光学元件的另一种配置; 图9系一示意图,其中显示在一微影装置中一充填 有流体之光学元件的配置;及 图10系显示在一校准工具中之光学元件的配置。 |
