| 主权项 |
1.一种微影装置,其包括: 一经组态以提供一辐射投影光束之照明系统; 一经组态以支撑一图案化结构之支撑结构,该图案 化结构经组态以赋予该投影光束一在其横截面中 之图案; 一经组态以固持一基板之基板台;及 一经组态以将该图案化光束投影至该基板之一目 标部分之上之投影系统,该投影系统具有一中间焦 点,其中该装置在该中间焦点处或接近该中间焦点 处包括以下至少一者: 经组态以衰减该图案化光束之至少一辐射衰减器; 经组态以使该图案化光束之至少一部分穿过的至 少一可变孔径系统;及 经组态以量测该图案化光束之一强度的至少一辐 射量测系统。 2.如请求项1之装置,其中该至少一可变孔径系统包 括经组态以遮蔽该图案化光束之部分的至少两个 遮光叶片。 3.如请求项1之装置,其中该至少一辐射衰减器包括 一均衡校正元件,该均衡校正元件包括经组态以阻 挡该图案化光束之部分的复数个叶片,该均衡校正 元件系经组态以增强该图案化光束在该基板上之 该强度的均衡性。 4.如请求项3之装置,其中该均衡校正元件经组态以 动态调整该图案化光束在特定位置之一辐射透射 率。 5.如请求项1之装置,其中该辐射量测系统包括一强 度监视感应器。 6.如请求项5之装置,其中该强度监视感应器包括一 二极体感应器。 7.如请求项1之装置,其中该至少一辐射衰减器经组 态以量测该图案化光束之一强度。 8.如请求项7之装置,其进一步包括一电路,该电路 经组态以量测该至少一辐射衰减器之元件的电学 特性,以便判定该图案化光束之该强度。 9.如请求项1之装置,其中该辐射投影光束具有一在 5-20nm范围内之波长。 10.一种用于一微影装置之投影系统,该投影系统具 有一中间焦点,其中该投影系统在该中间焦点处或 接近该中间焦点处包括以下至少一者: 经组态以衰减一图案化光束之至少一辐射衰减器, 经组态以使该图案化光束之至少一部分穿过的至 少一可变孔径系统,及 经组态以量测该图案化光束之一强度的至少一辐 射量测系统。 11.一种元件制造方法,其包括: 使用一投影系统将一图案化辐射光束投影至一基 板之一目标部分上; 在该投影系统之一中间焦点处或接近该中间焦点 处衰减该图案化光束; 在该投影系统之该中间焦点处或接近该中间焦点 处使该图案化光束之至少一部分穿过;及 在该投影系统之该中间焦点处或接近该中间焦点 处量测该图案化光束之一强度。 12.一种根据请求项11制造之元件。 13.一种微影装置,其包括: 用于提供一辐射投影光束之构件; 用于支撑一用于赋予该投影光束一在其横截面中 之图案之图案化构件之构件; 用于固持一基板之构件;及 用于将该图案化光束投影至该基板之一目标部分 上之构件,该投影系统具有一中间焦点,其中该装 置在该中间焦点处或接近该中间焦点处包括以下 至少一者: 用于衰减该图案化光束之构件; 用于使该图案化光束之至少一部分穿过的构件;及 用于量测该图案化光束之一强度之构件。 14.如请求项13之装置,其中该用于衰减之构件包括 经组态以遮蔽该图案化光束之部分的至少两个遮 光叶片。 15.如请求项13之装置,其中用于衰减之构件包括用 于增强之该图案化光束在该基板上的该强度之均 衡性之构件。 16.如请求项15之装置,其中该用于增强均衡性之构 件包括经组态以阻挡该图案化光束之部分的复数 个叶片。 17.如请求项15之装置,其中该用于增强均衡性之构 件动态调整该图案化光束在特定位置的一辐射透 射率。 18.如请求项13之装置,其中该用于量测之构件包括 一强度监视感应器。 19.如请求项18之装置,其中该强度监视感应器包括 一二极体感应器。 20.如请求项13之装置,其中该用于衰减之构件包括 一经组态以量测该用于衰减之构件的器件的电学 特性之电路,以便判定该图案化光束之该强度。 图式简单说明: 图1描绘一根据本发明之微影装置; 图2展示一根据本发明之微影投影装置的一EUV照明 系统及一投影光学系统(projection optics)之侧视图; 图3为一遮光叶片系统、以及曝光区域及一主光罩 之示意图; 图4为一在一中间焦点处阻挡部分投影光束的均衡 校正系统之俯视图;及 图5展示了经组态以量测一辐射衰减器之一器件阻 抗之电路。 |
