| 主权项 |
1.一种微影装置,其包括: -一照明系统,用于供应一辐射投影光束; -一由复数个可个别控制元件所组成的图案化阵列 ,用以于该投影光束的剖面中赋予某种图案; -一安装平板,其上安装着该图案化阵列; -一高度调整结构,用以局部调整该图案化阵列之 主动表面的高度; -一基板工作台,用于支撑一基板;以及 -一投影系统,用于将该已图案化的光束投影至该 基板的一目标部分之上。 2.如请求项1之装置,其中该高度调整结构包括一高 度感测器,用以侦测该可程式图案化构件中的不平 坦度,以及包括一回授回路,用以控制被套用至该 图案化阵列的调整値。 3.如请求项1之装置,其中该高度调整结构包括一压 电元件阵列。 4.如请求项1之装置,其中该高度调整结构包括一螺 丝或螺栓阵列,该等螺丝或螺栓会穿过该安装部件 中的复数个螺纹状穿孔,并且会支撑该图案化阵列 。 5.如请求项1之装置,其包括复数个位于一共同安装 部件上的图案化阵列以及复数个个别的高度调整 结构,藉由该等高度调整结构便可以手动方式来等 高化该等各个图案化阵列。 6.一种微影装置,其包括: -一照明系统,用于供应一辐射投影光束; -一由复数个可个别控制元件所组成的图案化阵列 ,用以于该投影光束的剖面中赋予某种图案; -一基板工作台,用于支撑一基板;以及 -一投影系统,用于将该已图案化的光束投影至该 基板的一目标部分之上;其中 -该图案化阵列包括位于一基板之第一表面上的复 数个主动元件,该基板中与该第一基板相反的第二 表面呈现光学平坦;以及一刚性安装主体,其具有 一光学平坦表面,用和该基板的该第二表面产生黏 结。 7.如请求项6之装置,其中该刚性主体会透过一能够 校正该等图案化阵列之全域倾斜的固定或活动式 基座来安装该安装主板。 8.如请求项7之装置,其中可沿着该刚性安装主体的 中线来安装该刚性安装主体,致使于该安装主体发 生热膨胀或收缩时,该图案化构件亦不会发生变形 。 9.如请求项6之装置,其中系利用直接晶结法( ansprengen法)将该基板的该第二表面黏结至该刚性 安装主体的该平坦表面。 10.一种器件制造方法,其包括下列步骤: -提供一至少部份被一层辐射敏感材料所覆盖的基 板; -利用一辐射系统提供一辐射投影光束; -利用一图案化阵列于该第一投影光束的剖面中赋 予某种图案; -将该已图案化的辐射投影光束投影至该层辐射敏 感材料的一目标部分之上;以及 -将该图案化阵列安装至一安装平板或刚性主体之 上,确保其主动表面维持平坦。 11.一种利用无光罩式微影系统的器件制造方法,该 方法包括: 照明一具有复数个图案化阵列的图案化阵列装配 件,其中该图案化阵列装配件会定义一第一平面; 将该图案化阵列装配件中的至少一个图案化阵列 的位置从该第一平面调整至一第二定位;以及 利用源自该图案化阵列装配件的光来对一物件进 行曝光。 12.如请求项11之方法,其中该第一平面与该图案化 阵列装配件中至少一个其它图案化阵列共平面,而 且该第二定位并未与该至少一个其它图案化阵列 共平面。 13.如请求项12之方法,其中该第二定位系一第二平 面。 14.如请求项13之方法,其中该第二定位系平行该第 一平面。 15.如请求项13之方法,其中该第二定位会与该第一 平面倾斜成某个角度。 16.如请求项12之方法,其中该第二定位系和该第一 平面成弯曲状。 17.如请求项11之方法,其中可调整该至少一个图案 化阵列的位置以便补偿该光于该物件处之聚焦偏 离。 18.如请求项11之方法,其中可主动地调整该至少一 个图案化阵列的位置。 19.如请求项18之方法,其中可利用复数个活塞来调 整该至少一个图案化阵列的位置。 20.如请求项11之方法,其中可手动调整该至少一个 图案化阵列的位置。 21.如请求项20之方法,其中可利用螺丝来调整该至 少一个图案化阵列的位置。 22.如请求项11之方法,其中仅会于该无光罩式微影 系统的初始设定期间才会实施该方法。 23.如请求项11之方法,其中可定期地实施该方法,用 以维护该无光罩式微影系统。 24.一种利用无光罩式微影系统的器件制造方法,其 包括: 照明一具有复数个图案化阵列的图案化阵列装配 件,其中该图案化阵列装配件中的每个图案化阵列 皆具有一第一位置; 将至少一个图案化阵列从该第一位置调整至一第 二位置; 经由一光学系统从该图案化阵列装配件中来传送 光;以及 利用该被传送的光来对一物件进行曝光, 其中该第一位置系与该图案化阵列装配件中该等 复数个图案化阵列共平面,而且该第二位置并未与 该图案化阵列装配件共平面。 25.如请求项24之方法,其中该第二位置系平行该第 一位置。 26.如请求项24之方法,其中该调整步骤包括倾斜该 至少一个图案化阵列。 27.如请求项24之方法,其中该调整步骤包括弯曲该 至少一个图案化阵列。 28.一种利用一于一图案化阵列装配件中具有复数 个图案化阵列的无光罩式微影系统的器件制造方 法,该图案化阵列装配件具有一反射表面,该方法 包括: -依照该像差来调整该等复数个图案化阵列中至少 其中一者的位置; -照明该图案化阵列装配件; -经由一光学系统来传送被该图案化阵列装配件反 射的光;以及 -利用该光来对一物件进行曝光, -其中该调整步骤会让该图案化阵列装配件的反射 表面偏离一平坦平面。 29.如请求项28之方法,其中该调整步骤包括: -于该物件的平面处接收曝光资料; -决定该等复数个图案化阵列中该至少其中一者所 需要的校正调整値,其中该调整値系依照该曝光资 料;以及 -于必要时调整该等复数个图案化阵列中该至少其 中一者以减少该像差。 30.一种无光罩式微影系统,其沿着一光路径包括: -一照明源,其系被配置成用以产生光; -一具有复数个图案化阵列的图案化阵列装配件, 该等复数个图案化阵列中的每个图案化阵列皆会 被黏着至一个别的调整器; -一光学系统,其系被配置成用以调整该光;以及 -一影像平面,其系被配置成用以接收该光, -其中每个调整器会于必要时移动一个别的图案化 阵列,用以校正被该物件所接收之光中的光学像差 ,致使该图案化阵列装配件的表面偏离一平坦平面 。 31.如请求项30之系统,其中该像差系一总聚焦偏差 。 32.如请求项30之系统,其中该调整系一组调整器。 33.如请求项32之系统,其中该组调整器会倾斜其个 别的图案化阵列。 34.如请求项32之系统,其中该组调整器会弯曲其个 别的图案化阵列。 35.如请求项32之系统,其中该组调整器会改变其个 别的图案化阵列的高度。 36.如请求项32之系统,其进一步包括: 一控制器,其系被配置成用以控制该等调整器。 37.如请求项36之系统,其中该等调整器系活塞。 38.如请求项32之系统,其中该等调整器系螺丝。 图式简单说明: -图1为根据本发明一具体实施例的一微影装置; -图2为本发明第一具体实施例中的图案化阵列及 安装装配件; -图3为本发明第一具体实施例变化例中的图案化 阵列及安装装配件; -图4为本发明第一具体实施例第二变化例中的图 案化阵列及安装装配件; -图5为本发明第二具体实施例中的图案化阵列及 安装装配件; -图6为用于制造本发明第二具体实施例之图案化 阵列及安装装配件的制程流程图; -图7为用于制造本发明第二具体实施例之图案化 阵列及安装装配件的变化制程流程图; -图8为根据本发明具体实施例之具有反射式图案 化阵列的无光罩式微影系统的方块图; -图9为根据本发明具体实施例之具有透射式图案 化阵列的无光罩式微影系统的方块图; -图10为根据本发明具体实施例之图案化阵列示意 图; -图11为图10中之图案化阵列更细部的示意图; -图12为根据本发明具体实施例之装配件示意图; -图13为根据本发明具体实施例之方法的流程图; -图14为根据本发明具体实施例之方法的另一流程 图; -图15为根据本发明具体实施例之具有一组调整器 的图案化阵列示意图; -图16A为根据本发明具体实施例之图案化阵列装配 件的正面图; -图16B为根据本发明具体实施例之图案化阵列装配 件的剖面图; -图17A为根据本发明具体实施例之图案化阵列装配 件的正面图; -图17B为根据本发明具体实施例之图案化阵列装配 件的剖面图; -图18A为根据本发明具体实施例之图案化阵列装配 件的正面图; -图18B为根据本发明具体实施例之图案化阵列装配 件的剖面图。 |
